[發明專利]有機電致發光顯示裝置用金屬掩膜清洗方法及利用它的金屬掩膜

在審

• 申請號: 202010092477.2
• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111748838A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發明（設計）人: 全修永;林永珉;樸鎬仁;辛性勛;李道亨
• 申請（專利權）人: 豐元化學有限公司
• 主分類號: C25F1/06
• 分類號: C25F1/06;C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 謝攀;劉繼富

1.一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法，其包括：

提供附著有環境異物或有機發光材料的金屬掩模；以及

將所述金屬掩膜浸漬于電解液后，向浸入所述電解液的電極供應電流，

其中，通過正向脈沖方式供應所述電流。

2.一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法，其包括：

提供附著有環境異物或有機發光材料的金屬掩模；以及

將所述金屬掩膜浸漬于電解液后，向浸入所述電解液的電極供應電流，

其中通過反向脈沖方式供應所述電流。

3.根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述電解液的溫度為20℃至100℃。

4.根據權利要求3所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述電流具有1.5A/dm2至25A/dm2的電流密度。

5.根據權利要求4所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述清洗時間為3分鐘至120分鐘。

6.根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法，其還包括：

通過泡沫供應裝置進一步提供泡沫。

7.根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法，其還包括：

通過超聲波發生器進一步提供超聲波。

8.根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述金屬掩膜由殷鋼或不銹鋼制成，

所述電解液包括堿鹽、水溶性有機酸鹽及減少所述金屬掩膜的損傷的抑制劑，

所述抑制劑包括硫脲、1,2,3-苯并三唑或吡啶基化合物。

9.根據權利要求8所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述堿鹽包括氫氧化鹽、碳酸鹽、硅酸鹽或磷酸鹽，所述有機酸鹽包括檸檬酸鹽、琥珀酸鹽、醋酸鹽或乙醇酸鹽。

10.根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法，其中，

所述提供金屬掩膜的步驟包括：

將所述金屬掩膜放置在用于形成有機電致發光顯示裝置的基板上；

利用所述金屬掩膜在所述基板上形成由所述有機材料構成的圖案；以及

將所述金屬掩膜從所述基板移開。

11.一種金屬掩膜，其通過根據權利要求1或2所述的清洗金屬掩膜的方法來清洗。