[發明專利]等離子體表面處理設備及方法在審
| 申請號: | 202010089609.6 | 申請日: | 2020-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN111161994A | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發明(設計)人: | 萬良淏;徐龍;萬京林 | 申請(專利權)人: | 南京蘇曼等離子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人: | 金子娟 |
| 地址: | 211178 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 表面 處理 設備 方法 | ||
1.一種等離子體表面處理設備,包括工裝組件,其特征在于,設有吸附系統:
所述工裝組件包括工裝塊(26),工裝塊(26)頂面用于放置待處理的產品工件,在被產品工件覆蓋的位置,工裝塊(26)上設有至少一個吸附孔;
所述吸附系統包括吸附風機,工裝塊(26)上的吸附孔通過氣路與吸附風機(19)連接,設備工作時,通過吸附風機(19)將產品工件吸附在工裝塊(26)上。
2.根據權利要求1所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,所述工裝塊(26)的頂面面積小于產品工件的上表面面積,產品工件放置在工裝塊(26)上時,工裝塊(26)托住產品工件的中部,使產品工件的邊緣懸空。
3.根據權利要求1所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,所述產品工件的邊緣與工裝塊(26)邊緣距離不小于10mm。
4.根據權利要求2或3所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,所述工裝組件還設有托板(22)、氣路板(23)、氣路接口(25)和一轉接托盤(27);
工裝塊(26)安裝在所述托板(22)上,托板(22)在對應工裝塊(26)吸附孔的位置設有通孔;
氣路板(23)安裝在托板(22)下方,所述氣路板(23)上設置有氣路槽,氣路槽通過氣路接口(25)與吸附風機(19)連接,工裝塊(26)上的吸附孔則通過托板(22)上的通孔與氣路槽連通;
所述轉接托盤(27)上設有與工裝塊(26)一一對應的工件槽,工件槽頂面開口,底板設有通孔,工件槽頂面開口的尺寸大于產品工件尺寸,使產品工件可落入工件槽內;工件槽底板通孔的尺寸小于產品工件,但大于工裝塊,使得工件槽能將下落的產品工件托住,并使工裝塊(26)能從下方插入工件槽內,將產品工件頂起。
5.根據權利要求4所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,所述工件槽呈錐臺狀,四壁為斜面,其底板外緣尺寸與產品工件一致,底板上的通孔設置在中部。
6.根據權利要求1所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,設有柜體和多軸向運動系統;
所述柜體的中部設有工作臺,所述多軸向運動系統包括X軸滑臺、Y軸滑臺和Z軸滑臺,所述X軸滑臺位于Y軸滑臺的一側,安裝在上部柜體的后側,Z軸滑臺安裝在X軸滑臺的滑臺滑塊上,Y軸滑臺安裝在所述工作臺上;
等離子體發生系統的噴槍安裝在Z軸滑臺的滑臺滑塊上,位于所述工作臺上方的上部柜體內;工裝組件安裝在Y軸滑臺的滑臺滑塊上,在滑臺滑塊的帶動下進出上部柜體;
工作臺下方的下部柜體內設置有拖鏈(21),拖鏈(21)鋪設方向與Y軸滑臺的運動方向平行,拖鏈浮動端與工裝組件固連接,吸附氣路從拖鏈固定端穿入,從拖鏈移動端穿出,與工裝塊(26)上的吸附孔連通。
7.根據權利要求6所述的一種等離子體表面處理設備,其特征在于,所述Z軸滑臺的滑臺滑塊上安裝有兩種以上類型的噴槍和與噴槍一一對應的無桿氣缸,噴槍安裝在無桿氣缸的滑塊上,無桿氣缸固定安裝在所述Z軸滑臺的滑臺滑塊。
8.一種基于如權利要求1-6中任一項所述設備的等離子體表面處理方法,其特征在于,在等離子體發生系統噴槍工作時,通過氣壓吸附的方式,將待處理的產品工件吸附在工裝塊(26)上。
9.根據權利要求8所述的一種等離子體表面處理設備的處理方法,其特征在于,通過頂面面積小于產品工件的工裝塊(26)托起產品工件的中部,使產品工件的邊緣懸空,防止反射飛濺的等離子體干涉到產品工件的反面邊緣部位。
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