[發明專利]一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法及系統

在審

• 申請號: 202010086460.6
• 申請日: 2020-02-11
• 公開（公告）號: CN111172549A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 高巖;劉影
• 申請（專利權）人: 高巖
• 主分類號: C23G5/00
• 分類號: C23G5/00
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 李朦

本發明涉及一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，具體包括去離子水混合攪拌、清洗、流動循環、紫外光照射、超聲清洗以及射線消毒等步驟。本發明還提供了實現上述方法的裝置。本發明提供的方法以及裝置能夠更加有效的去除純鈦表面污染物，促進純鈦表面早期的細胞反應，從而能促進早期骨整合的建立，提高口腔臨床鈦種植體的成功率，從而可廣泛應用在醫學輔助設備技術領域。

技術領域

本發明涉及醫學輔助設備技術領域，具體是指一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法及系統。

背景技術

眾多研究均證實，鈦種植體表面清潔度在很大程度上影響其生物活性及早期骨整合。然而純鈦表面的二氧化鈦膜層在1分鐘甚至幾秒鐘就會吸附空氣中無機離子和有機污染物，使得表面化學組成改變，這些污染物降低了表面的生物活性，不利于骨結合的早期形成。另外，純鈦表面存在“老化”的現象，即表面生物活性隨著時間的延長而出現降低，骨引導作用下降，抑制了成骨細胞向表面的趨化，以及后期的增殖和分化功能。然而臨床上大多數鈦種植體的包裝使種植體不可避免的與空氣接觸，造成表面的污染，并出現老化現象。

目前清洗純鈦的方法主要有機械物理清洗和化學清洗，但這些方法會造成表面形貌和表面化學基團的破壞。近幾年大量研究證明用紫外輻照純鈦表面可以有效地去除表面吸附的部分碳氫化合物等有機吸附污染物。然而光催化作用僅僅依靠純鈦表面在空氣中自發氧化形成的納米厚度二氧化鈦膜層產生的光催化作用還是不夠的，尚有很大的提升空間。

因此，一種更加有效的去除純鈦表面污染物的表面清潔系統亟待研究。

發明內容

為解決上述技術問題，本發明提供的技術方案為：

一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，包括以下步驟：

S1、稱取90-100mg納米二氧化鈦顆粒溶于450-500ml的去離子水溶液中，并進行充分攪拌混合；

S2、將S1得到的去離子水溶液置入一容器中，并將一定尺寸的鈦片置入其中，且使得鈦片全部浸入去離子水溶液中；

S3、對S2中浸入有鈦片的去離子水溶液進行流動循環一定時間；

S4、將S3得到的循環后的去離子水溶液的容器置入黑暗環境下，并通過紫外光進行照射；

S5、取出鈦片，并進行清洗，而后進行超聲清洗三次，去掉表面的二氧化鈦顆粒；

S6、將S5得到的超聲清洗后的鈦片置入裝有去離子水的密封瓶中，用γ射線消毒12h后檢測備用。

進一步地，在S3中，流動循環的時間為30min。

進一步地，在S4中，紫外光照射的時間為2h。

進一步地，在S5中，每次超聲清洗的時間為15min。

進一步地，在S6中，γ射線為Co60，輻照劑量為25.0kGy。

本發明還提供了一種技術方案：

一種用于二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的系統，所述純鈦通過權利要求1所述的方法得到，包括驅動部、照射部、清洗部以及攪拌部，所述照射部位于攪拌部上方，所述驅動部、攪拌部組成一個閉合的回路，其中，

所述驅動部用于使得帶有納米二氧化鈦顆粒的去離子水溶液進行流動循環，以達到對納米二氧化鈦顆粒的吸附平衡；

所述照射部用于在黑暗環境下對吸附平衡后的鈦片進行紫外光的照射；

所述清洗部用于對紫外光照射后的鈦片進行超聲清洗；

所述攪拌部用于對混合有納米二氧化碳顆粒、鈦片的去離子水溶液進行攪拌。