[發(fā)明專利]一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法及系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010086460.6
• 申請日: 2020-02-11
• 公開（公告）號: CN111172549A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高巖;劉影
• 申請（專利權(quán)）人: 高巖
• 主分類號: C23G5/00
• 分類號: C23G5/00
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11616
• 代理人: 李朦

1.一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、稱取90-100mg納米二氧化鈦顆粒溶于450-500ml的去離子水溶液中，并進行充分?jǐn)嚢杌旌希?/p>

S2、將S1得到的去離子水溶液置入一容器中，并將一定尺寸的鈦片置入其中，且使得鈦片全部浸入去離子水溶液中；

S3、對S2中浸入有鈦片的去離子水溶液進行流動循環(huán)一定時間；

S4、將S3得到的循環(huán)后的去離子水溶液的容器置入黑暗環(huán)境下，并通過紫外光進行照射；

S5、取出鈦片，并進行清洗，而后進行超聲清洗三次，去掉表面的二氧化鈦顆粒；

S6、將S5得到的超聲清洗后的鈦片置入裝有去離子水的密封瓶中，用γ射線消毒12h后檢測備用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，其特征在于，在S3中，流動循環(huán)的時間為30min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，其特征在于，在S4中，紫外光照射的時間為2h。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，其特征在于，在S5中，每次超聲清洗的時間為15min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的方法，其特征在于，在S6中，γ射線為Co60，輻照劑量為25.0kGy。

6.一種用于二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的系統(tǒng)，其特征在于，所述純鈦通過權(quán)利要求1所述的方法得到，包括驅(qū)動部、照射部、清洗部以及攪拌部，所述照射部位于攪拌部上方，所述驅(qū)動部、攪拌部組成一個閉合的回路，其中，

所述驅(qū)動部用于使得帶有納米二氧化鈦顆粒的去離子水溶液進行流動循環(huán)，以達到對納米二氧化鈦顆粒的吸附平衡；

所述照射部用于在黑暗環(huán)境下對吸附平衡后的鈦片進行紫外光的照射；

所述清洗部用于對紫外光照射后的鈦片進行超聲清洗；

所述攪拌部用于對混合有納米二氧化碳顆粒、鈦片的去離子水溶液進行攪拌。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的系統(tǒng)，其特征在于，所述驅(qū)動部設(shè)為蠕動泵，所述照射部設(shè)為紫外燈，所述清洗部設(shè)為超聲清洗裝置，所述攪拌部設(shè)為磁力攪拌器。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的系統(tǒng)，其特征在于，還包括帶有開口的容器，所述容器用于盛放去離子水溶液，并位于攪拌部上，對帶有納米二氧化鈦顆粒的去離子水溶液進行攪拌。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的用于二氧化鈦光催化清潔純鈦表面的系統(tǒng)，其特征在于，所述磁力攪拌器設(shè)為兩個，且串聯(lián)連接在閉合回路中；所述容器設(shè)為兩個，且分別放置在磁力攪拌器上。