[發(fā)明專利]襯底處理裝置和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010084878.3
• 申請(qǐng)日: 2020-02-10
• 公開（公告）號(hào): CN113106419A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: V·基爾皮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皮考遜公司
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/46;C23C16/511;C23C16/50;C23C16/54;C23C16/458
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 酆迅;傅遠(yuǎn)

本公開的實(shí)施例涉及襯底處理裝置和方法。一種襯底處理裝置，包括內(nèi)腔室，其由上部分和下部分形成；襯底支撐件，其將襯底支撐在內(nèi)腔室的上部分中；等離子體系統(tǒng)，其從內(nèi)腔室的頂側(cè)向內(nèi)腔室提供等離子體物種；以及外腔室，其包圍內(nèi)腔室的上部分。內(nèi)腔室的下部分延伸到外腔室的外側(cè)并且保持不被外腔室覆蓋。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明總體上涉及襯底處理方法和裝置。更具體地但非排他地，本發(fā)明涉及等離子體增強(qiáng)原子層沉積(ALD)反應(yīng)器。

背景技術(shù)

本章節(jié)說明了有用背景信息，而非承認(rèn)本文中所描述的代表現(xiàn)有技術(shù)的任何技術(shù)。

在諸如原子層沉積(ALD)之類的化學(xué)沉積方法中，等離子體可以用于為表面反應(yīng)提供所需附加能量。盡管ALD反應(yīng)器已經(jīng)存在了數(shù)十年，但是等離子體增強(qiáng)反應(yīng)器代表了一種更年輕的技術(shù)。持續(xù)需要開發(fā)改進(jìn)的等離子體增強(qiáng)ALD反應(yīng)器或至少提供現(xiàn)有解決方案的備選方案。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的某些實(shí)施例的目的是提供一種改進(jìn)的襯底處理裝置或至少提供現(xiàn)有技術(shù)的備選解決方案。

根據(jù)本發(fā)明的第一示例方面，提供了一種襯底處理裝置，其包括：

內(nèi)腔室，其由上部分和下部分形成；

襯底支撐件，其將襯底支撐在內(nèi)腔室的上部分內(nèi)；

等離子體系統(tǒng)，其從內(nèi)腔室的頂側(cè)向內(nèi)腔室提供等離子體物種(species)；以及

外腔室，其包圍內(nèi)腔室上部分，而內(nèi)腔室的下部分延伸到外腔室的外側(cè)并且未被外腔室覆蓋。

在某些實(shí)施例中，該裝置包括：

外腔室中的加熱器，其加熱內(nèi)腔室的上部分。

在某些實(shí)施例中，該裝置包括：

外腔室的熱反射器。

在某些實(shí)施例中，該裝置包括在加熱器與一個(gè)或多個(gè)外腔室壁之間的熱反射器。

在某些實(shí)施例中，等離子體系統(tǒng)被配置為向內(nèi)腔室提供兩種不同的等離子體物種，其從內(nèi)腔室的頂側(cè)或經(jīng)由內(nèi)腔室的上部分的頂部進(jìn)入內(nèi)腔室。在某些實(shí)施例中，等離子體系統(tǒng)被配置為向內(nèi)腔室提供兩種不同的等離子體物種，其中在內(nèi)腔室的上部分生成第一等離子體物種，而遠(yuǎn)程生成第二等離子體物種。在某些實(shí)施例中，遠(yuǎn)程生成的等離子體物種經(jīng)由進(jìn)料線(優(yōu)選地，經(jīng)由反應(yīng)腔室頂部)進(jìn)給到內(nèi)腔室的上部分。

在某些實(shí)施例中，該裝置包括：

活動(dòng)蓋或蓋系統(tǒng)(內(nèi)腔室和/或外腔室的頂側(cè)上)。

在某些實(shí)施例中，蓋或蓋系統(tǒng)形成外腔室的蓋。在某些實(shí)施例中，內(nèi)腔室具有單獨(dú)的蓋。在某些實(shí)施例中，省略內(nèi)腔室的單獨(dú)的蓋，并且蓋系統(tǒng)或外腔室蓋用作外腔室和內(nèi)腔室兩者的蓋。

因而，在某些實(shí)施例中，蓋系統(tǒng)(或外腔室蓋)形成外腔室的蓋。在某些實(shí)施例中，蓋系統(tǒng)同時(shí)打開(和關(guān)閉)外腔室和內(nèi)腔室兩者。在某些實(shí)施例中，蓋系統(tǒng)是可移動(dòng)的和/或可打開的。在某些實(shí)施例中，蓋系統(tǒng)通過鉸接或筆直升降運(yùn)動(dòng)而打開。

在某些實(shí)施例中，該裝置包括蓋系統(tǒng)(或外腔室蓋)中的至少一個(gè)進(jìn)料線(或管道/管子)的饋通件。

在某些實(shí)施例中，饋通件是打開的(或可打開的)，即，在打開蓋系統(tǒng)時(shí)至少一個(gè)進(jìn)料線打開(或是不連續(xù)的)。在某些實(shí)施例中，饋通件在當(dāng)蓋系統(tǒng)被打開(或打開)時(shí)饋通件會(huì)中斷進(jìn)料線的情況下是打開的(或可打開的)。

在某些實(shí)施例中，外腔室為柱形。在某些實(shí)施例中，蓋系統(tǒng)橫向延伸到外腔室區(qū)域外側(cè)。在某些實(shí)施例中，橫向延伸到外側(cè)意指蓋系統(tǒng)橫向延伸到外腔室邊界外側(cè)。該邊界可以由一個(gè)或多個(gè)外腔室壁限定，并且在一個(gè)實(shí)施例中，通過將外腔室在其豎直方位上由水平面切割而獲得。