[發(fā)明專(zhuān)利]透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu)及其設(shè)計(jì)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010083895.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111257977B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石建平;陳聰;翁朝倉(cāng);席建新;陳盼盼 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安徽師范大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B5/00 | 分類(lèi)號(hào): | G02B5/00;G02B27/00 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107 | 代理人: | 鐘雪 |
| 地址: | 241000 安徽省*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透射 紫外 sp 定向 傳輸 結(jié)構(gòu) 及其 設(shè)計(jì) 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)一種透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu)及其設(shè)計(jì)方法,該結(jié)構(gòu)包括:襯底,設(shè)于襯底上表面的金屬薄膜,在金屬薄膜上設(shè)有納米狹縫,在納米狹縫的一側(cè)設(shè)有金屬凹槽;納米狹縫的寬度Ws為入射紫外光波的SP半波長(zhǎng)λsp,即Ws=1/2λsp,納米狹縫的深度Ds與金屬薄膜的厚度相等,金屬凹槽的深度Dg為10?70nm,凹槽寬度Wg范圍為25?205nm;在紫外SP向金屬凹槽背離側(cè)傳輸時(shí),金屬凹槽的寬度Wg取1/4λsp的奇數(shù)倍;在紫外SP向金屬凹槽所在側(cè)傳輸時(shí),金屬凹槽寬度Wg取1/4λsp的偶數(shù)倍。利用納米狹縫和凹槽設(shè)計(jì)的透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu),提出了SP傳輸左向/右向調(diào)控的方案。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于紫外SP傳輸技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,本發(fā)明涉及一種透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu)及其設(shè)計(jì)方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的表面等離激元(Surface Plasmon,SP)光子學(xué)研究多涉及可見(jiàn)光或者紅外波段。近年來(lái)隨著研究的不斷深入,越來(lái)越多的研究人員開(kāi)始關(guān)注將SP技術(shù)拓展到紫外波段,比如紫外表面增強(qiáng)拉曼散射光譜、紫外高效LED、紫外SP納米光刻等。由于紫外SP激發(fā)效率一直較低,并且傳輸損耗又大,阻礙了紫外SP技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu),旨在提高紫外SP的激發(fā)強(qiáng)度及傳輸方向的可控性。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,一種透射型紫外SP定向傳輸結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)方法,所述方法具體包括如下步驟:
S1、基于入射紫外光的波長(zhǎng)λ0計(jì)算SP波長(zhǎng)λsp;
S2、基于SP波長(zhǎng)λsp確定納米狹縫的寬度Ws,即Ws=λsp/2,將納米狹縫的深度設(shè)置為金屬薄膜的厚度;
S3、基于定向傳輸方向確定金屬凹槽的寬度,當(dāng)需要紫外SP向金屬凹槽背離側(cè)的金屬薄膜表面?zhèn)鬏敃r(shí),金屬凹槽的寬度Wg為λsp/4的奇數(shù)倍,當(dāng)需要紫外SP向金屬凹槽所在側(cè)的金屬薄膜表面?zhèn)鬏敃r(shí),金屬凹槽寬度Wg為λsp/4的偶數(shù)倍;
S4、獲取不同腔長(zhǎng)LFP及不同金屬凹槽深度Dg對(duì)應(yīng)的消光比數(shù)值,獲取消光比數(shù)值最大的腔長(zhǎng)LFP及金屬凹槽深度Dg,即為最佳腔長(zhǎng)及最佳凹槽深度,基于最佳腔長(zhǎng)確定金屬凹槽的寬度Wg;
腔長(zhǎng)LFP等于納米狹縫的寬度Ws與金屬凹槽的寬度Wg之和,通過(guò)調(diào)整金屬凹槽的寬度Wg來(lái)調(diào)整腔長(zhǎng)LFP。
進(jìn)一步的,在步驟S4之后還包括:
S5、當(dāng)需要紫外SP向金屬凹槽所在側(cè)傳輸時(shí),則在金屬凹槽背離側(cè)的金屬薄膜上設(shè)置Bragg光柵,當(dāng)需要紫外SP向金屬凹槽背離側(cè)傳輸時(shí),則金屬凹槽所在側(cè)的金屬薄膜上設(shè)置Bragg光柵;
Bragg光柵周期Λ=λB/2·neff,neff為Bragg光柵結(jié)構(gòu)的有效折射率,Bragg光柵的占空比為(Λ-Ws)/Ws,Bragg光柵的深度與金屬凹槽的深度Dg相同。
進(jìn)一步的,所述金屬薄膜的材料為Al。
進(jìn)一步的,所述金屬薄膜層的厚度小于入射波的波長(zhǎng)λ0。
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