[發明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請號: 202010082513.7
• 申請日: 2020-02-07
• 公開（公告）號: CN111261800B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 鄭穎
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

本發明提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板，陣列基板包括襯底基板、設置于所述襯底基板上的陣列層、設置于所述陣列層上的發光器件層，以及，覆蓋所述發光器件層的封裝層；所述襯底基板包括位于主顯示區的第一部分和位于功能附加區的第二部分，所述第二部分包括靠近所述陣列層的第一側面，所述第一側面包括向靠近所述陣列層的方向凸起的第一凸面。將襯底基板的第二部分以及位于功能附加區的無機膜層設置成類似于凸透鏡的結構，從而對功能附加區處的光線進行聚集，提升進入到攝像頭等感光元件的光通量。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示面板。

背景技術

全面屏，作為一種全新的顯示屏，由于具有極高的屏占比，給人們帶來全新的視覺體驗和感官沖擊，成為顯示廠商競相追求的目標。如圖1所示，在全面屏中，攝像頭等感光元件12一般采用屏下設計。

然而，顯示面板上攝像頭等感光元件12對應的區域處存在多層透光性較差的膜層11(如柵極金屬層以及陰極層等膜層)，從而導致進入到攝像頭等感光元件12的光線的光通量較低，影響攝像品質。

發明內容

本發明提供一種陣列基板，以解決顯示面板上攝像頭等感光元件對應的區域處存在多層透光性較差的膜層，從而導致進入到攝像頭等感光元件的光線的光通量較低的技術問題。

為解決上述問題，本發明提供的技術方案如下：

一種陣列基板，所述陣列基板具有主顯示區和功能附加區，所述主顯示區圍繞所述功能附加區的至少一部分設置；所述陣列基板包括：

襯底基板；

設置于所述襯底基板上的陣列層；

設置于所述陣列層上的發光器件層；以及，

覆蓋所述發光器件層的封裝層；

其中，所述襯底基板包括位于所述主顯示區的第一部分和位于所述功能附加區的第二部分，所述第二部分包括靠近所述陣列層的第一側面，所述第一側面包括向靠近所述陣列層的方向凸起的第一凸面。

進一步的，所述第二部分還包括與所述第一側面背向設置的第二側面，所述第二側面包括向靠近所述陣列層的方向凸起的第二凸面。

進一步的，所述第二部分的厚度小于所述第一部分的厚度。

進一步的，所述陣列層包括位于所述主顯示區的第一分體和位于所述功能附加區的第二分體，所述第二分體由多層無機膜層形成。

進一步的，每一層所述無機膜層遠離所述襯底基板的一側的側面均包括向遠離所述襯底基板的方向凸起的凸面。

進一步的，所述第一分體包括：

設置于所述襯底基板上的有源層；

覆蓋所述有源層的第一絕緣層；

設置于所述第一絕緣層上的第一金屬層；

覆蓋所述第一金屬層的第二絕緣層；

設置于所述第二絕緣層上的第二金屬層；

覆蓋所述第二金屬層的層間絕緣層；

設置于所述層間絕緣層上的第三金屬層；

其中，所述陣列基板還包括設置于所述層間絕緣層上且覆蓋所述第三金屬層的平坦層，以及，設置于所述平坦層上的陽極層和像素定義層；所述功能附加區處設置有貫穿所述像素定義層和所述平坦層的通孔。

進一步的，所述第二分體包括：

與所述第一絕緣層同層設置的第一無機層；

與所述第二絕緣層同層設置的第二無機層；以及，