[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010082513.7
• 申請日: 2020-02-07
• 公開（公告）號: CN111261800B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭穎
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板具有主顯示區(qū)和功能附加區(qū)，所述主顯示區(qū)圍繞所述功能附加區(qū)的至少一部分設(shè)置；所述陣列基板包括：

襯底基板；

設(shè)置于所述襯底基板上的陣列層；

設(shè)置于所述陣列層上的發(fā)光器件層；以及，

覆蓋所述發(fā)光器件層的封裝層；

其中，所述襯底基板包括位于所述主顯示區(qū)的第一部分和位于所述功能附加區(qū)的第二部分，所述第二部分包括靠近所述陣列層的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面包括向靠近所述陣列層的方向凸起的第一凸面；所述陣列層包括位于所述主顯示區(qū)的第一分體和位于所述功能附加區(qū)的第二分體，所述第二分體由多層無機(jī)膜層形成，功能附加區(qū)僅保留無機(jī)膜層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第二部分還包括與所述第一側(cè)面背向設(shè)置的第二側(cè)面，所述第二側(cè)面包括向靠近所述陣列層的方向凸起的第二凸面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第二部分的厚度小于所述第一部分的厚度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每一層所述無機(jī)膜層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)的側(cè)面均包括向遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向凸起的凸面。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述第一分體包括：

設(shè)置于所述襯底基板上的有源層；

覆蓋所述有源層的第一絕緣層；

設(shè)置于所述第一絕緣層上的第一金屬層；

覆蓋所述第一金屬層的第二絕緣層；

設(shè)置于所述第二絕緣層上的第二金屬層；

覆蓋所述第二金屬層的層間絕緣層；

設(shè)置于所述層間絕緣層上的第三金屬層；

其中，所述陣列基板還包括設(shè)置于所述層間絕緣層上且覆蓋所述第三金屬層的平坦層，以及，設(shè)置于所述平坦層上的陽極層和像素定義層；所述功能附加區(qū)處設(shè)置有貫穿所述像素定義層和所述平坦層的通孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述第二分體包括：

與所述第一絕緣層同層設(shè)置的第一無機(jī)層；

與所述第二絕緣層同層設(shè)置的第二無機(jī)層；以及，

與所述層間絕緣層同層設(shè)置的第三無機(jī)層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述發(fā)光器件層位于所述主顯示區(qū)，所述封裝層填充所述通孔。

8.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S10、在承載基板的第一側(cè)上與功能附加區(qū)對應(yīng)的位置處形成外凸的凸面結(jié)構(gòu)；

S20、在所述承載基板的第一側(cè)上形成襯底基板；

S30、在所述襯底基板上形成陣列層；

S40、在所述陣列層上形成發(fā)光器件層；

S50、形成覆蓋所述發(fā)光器件層的封裝層；

S60、將所述承載基板與所述襯底基板分離；

所述步驟S30包括：

S31、在所述襯底基板上形成位于主顯示區(qū)的有源層；

S32、在所述襯底基板上形成位于所述主顯示區(qū)的第一絕緣層以及位于所述功能附加區(qū)的第一無機(jī)層，所述第一絕緣層覆蓋所述有源層；

S33、形成位于所述第一絕緣層上的第一金屬層；

S34、形成位于所述第一絕緣層上且覆蓋所述第一金屬層的第二絕緣層，并形成位于所述第一無機(jī)層上的第二無機(jī)層；

S35、形成位于所述第二絕緣層上的第二金屬層；

S36、形成位于所述第二絕緣層上且覆蓋所述第二金屬層的層間絕緣層，并形成位于所述第二無機(jī)層上的第三無機(jī)層；

S37、形成位于所述層間絕緣層上的第三金屬層；

S38、形成覆蓋所述第三金屬層的平坦層，并去除所述平坦層位于所述功能附加區(qū)的部分，以形成貫穿平坦層的第一通孔；

S39、在所述平坦層上形成陽極層和像素定義層，并去除所述像素定義層位于所述功能附加區(qū)的部分，以形成貫穿像素定義層的第二通孔；

其中，所述襯底基板包括位于主顯示區(qū)的第一部分和位于功能附加區(qū)的第二部分，所述第二部分包括靠近所述陣列層的第一側(cè)面，所述第一側(cè)面包括向所述陣列層凸起的第一凸面。

9.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括如權(quán)利要求1至7中任一項所述的陣列基板。