[發(fā)明專利]貼膜機(jī)及貼膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010082166.8
• 申請(qǐng)日: 2020-02-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113257707B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊佳裕;陳明宗;賴家偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 志圣科技(廣州)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 李旭;曹正建

1.一種貼膜機(jī)，其特征在于，包含：

一下腔體；

一上腔體，可相對(duì)該下腔體移動(dòng)以與該下腔體密合；

一靜電吸盤，設(shè)置于該上腔體，該靜電吸盤用以吸取包含一第一膜料以及一第二膜料的一多層膜，其中該第一膜料介于該靜電吸盤與該第二膜料之間；以及

一膜料撓曲元件，設(shè)置于該上腔體，該膜料撓曲元件可相對(duì)該上腔體活動(dòng)以接近或遠(yuǎn)離該下腔體，并且該膜料撓曲元件為一環(huán)形充氣環(huán)，該膜料撓曲元件用以推抵該第一膜料而使該第一膜料的周邊部分產(chǎn)生撓曲，進(jìn)而產(chǎn)生撓曲的該第一膜料的周邊部分覆蓋該第二膜料的側(cè)邊。

2.如權(quán)利要求1所述的貼膜機(jī)，其特征在于，更包含一氣囊膜，設(shè)置于該上腔體，其中該靜電吸盤與該氣囊膜相連而設(shè)置于該上腔體。

3.如權(quán)利要求2所述的貼膜機(jī)，其特征在于，該靜電吸盤與該環(huán)形充氣環(huán)分別位于該氣囊膜的相對(duì)二側(cè)。

4.如權(quán)利要求2所述的貼膜機(jī)，其特征在于，更包含一加熱器，并且該靜電吸盤與該加熱器分別位于該氣囊膜的相對(duì)二側(cè)。

5.如權(quán)利要求1所述的貼膜機(jī)，其特征在于，該靜電吸盤用以吸附不同尺寸的多個(gè)膜料。

6.一種貼膜方法，其特征在于，包含：

提供一第一膜料以及一第二膜料，其中該第一膜料的尺寸大于該第二膜料的尺寸；

以一靜電吸盤吸取該第一膜料以及該第二膜料，其中該第一膜料介于該靜電吸盤與該第二膜料之間；

令一膜料撓曲元件與該第一膜料靠近，以藉由該膜料撓曲元件推抵該第一膜料而使該第一膜料的周邊部分產(chǎn)生撓曲，進(jìn)而產(chǎn)生撓曲的該第一膜料的周邊部分覆蓋該第二膜料的側(cè)邊，其中該膜料撓曲元件為一環(huán)形充氣環(huán)；以及

將該第二膜料貼附于一基材。

7.如權(quán)利要求6所述的貼膜方法，其特征在于，該第一膜料為非熱熔性材質(zhì)，該第二膜料為熱熔性材質(zhì)。

8.如權(quán)利要求6所述的貼膜方法，其特征在于，該靜電吸盤設(shè)置于一上腔體，該基材承載于一下腔體，該貼膜方法更包含：

使該上腔體與該下腔體密合而形成一密閉腔室，且該基材以及吸附有該第一膜料與該第二膜料的該靜電吸盤位于該密閉腔室內(nèi)；以及

對(duì)該密閉腔室抽真空。

9.如權(quán)利要求6所述的貼膜方法，其特征在于，將該第二膜料貼附于該基材包含：

加熱該第二膜料；以及

施力推壓該靜電吸盤，以將該第二膜料貼附于該基材。

10.如權(quán)利要求6所述的貼膜方法，其特征在于，以該靜電吸盤吸取該第一膜料以及該第二膜料包含：

以該靜電吸盤吸取該第一膜料；以及

以吸附有該第一膜料的該靜電吸盤吸取該第二膜料。

11.如權(quán)利要求6所述的貼膜方法，其特征在于，以該靜電吸盤吸取該第一膜料以及該第二膜料包含：

以該靜電吸盤吸取由該第一膜料與該第二膜料組成的一多層膜。