[發(fā)明專利]質(zhì)譜儀的質(zhì)量校準(zhǔn)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010079357.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111554559B | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·詹納考普洛斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 塞莫費(fèi)雪科學(xué)(不來梅)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J49/00 | 分類號(hào): | H01J49/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 陳潔;周全 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 質(zhì)譜儀 質(zhì)量 校準(zhǔn) | ||
公開一種校準(zhǔn)質(zhì)譜儀10的方法以及用于所述質(zhì)譜儀10的控制器200。所述質(zhì)譜儀10包含生成樣本離子的第一離子源20、生成外部校準(zhǔn)物離子的第二離子源50以及質(zhì)量分析器100。執(zhí)行初步質(zhì)量校準(zhǔn)。在樣本分析的時(shí)間段t之后,將外部校準(zhǔn)物離子與所述樣本離子分別引入到所述質(zhì)譜儀10中。獲得表示所述外部校準(zhǔn)物離子的質(zhì)荷比的數(shù)據(jù)。將所述外部校準(zhǔn)物離子數(shù)據(jù)與參考外部校準(zhǔn)物離子數(shù)據(jù)相比較以獲得表示質(zhì)量差的偏移值。如果此偏移低于閾值,則使用新的外部校準(zhǔn)物離子數(shù)據(jù)修改所述初步校準(zhǔn)。如果所述偏移高于閾值,則執(zhí)行全面重新校準(zhǔn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及質(zhì)譜儀的質(zhì)量校準(zhǔn),例如但不限于傅立葉變換質(zhì)譜儀(FourierTransform?Mass?Spectrometer,F(xiàn)TMS),例如OrbitrapTM,或飛行時(shí)間(TOF)或四極桿質(zhì)譜儀。
背景技術(shù)
質(zhì)譜通常需要某種形式的質(zhì)量校準(zhǔn)以確保質(zhì)譜中報(bào)告的質(zhì)量是準(zhǔn)確的。通常,對(duì)形成“校準(zhǔn)混合物”的多個(gè)校準(zhǔn)種類進(jìn)行測量,并確定已知的校準(zhǔn)物離子種類的質(zhì)荷(m/z)比與其理論m/z比之間的關(guān)系。理論m/z比是指實(shí)際或已知的m/z比。通常擬合并調(diào)整校準(zhǔn)曲線,以使校準(zhǔn)化合物的以實(shí)驗(yàn)方式確定的值與理論值之間的誤差最小化。接著,可將校準(zhǔn)曲線用在后續(xù)質(zhì)量分析中,以校正測得的m/z比。
由于時(shí)間上可變的條件,例如溫度波動(dòng),測得的m/z(或在飛行時(shí)間MS的情況下,涉及m/z的平方根的飛行時(shí)間)隨時(shí)間而偏移。因此,在某一時(shí)間獲得的校準(zhǔn)曲線以當(dāng)時(shí)的實(shí)驗(yàn)條件為基礎(chǔ),并且可能無法提供準(zhǔn)確的隨后分析的離子m/z。解決此問題的一種方式是通過選擇材料和構(gòu)造,從而使溫度偏移的影響最小化。由于受影響材料的熱時(shí)間限制(熱慣性),此類方法難以進(jìn)行并且較貴,無論如何,還可能無效。
作為替代方案,已提議測量溫度且接著基于測得的溫度來調(diào)整校準(zhǔn)參數(shù)。此類方法計(jì)算繁重,并且準(zhǔn)確而充分地測量溫度可能具有挑戰(zhàn)性。
解決時(shí)間漂移的另一方法是定期重新校準(zhǔn)質(zhì)譜儀——也就是說,重新計(jì)算校準(zhǔn)曲線。這需要使用已知的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)以允許計(jì)算修正/更新后的校準(zhǔn)曲線參數(shù)。
使用此類“校準(zhǔn)混合物”——即,使用單獨(dú)地供應(yīng)到質(zhì)譜儀的已知m/z的離子種類)會(huì)造成困難。如果未充分頻繁地重新計(jì)算校準(zhǔn)系數(shù),這可能就會(huì)導(dǎo)致m/z或TOF測量值的不可接受的不準(zhǔn)確性;由于在分析校準(zhǔn)混合物時(shí)沒有進(jìn)行任何樣本測量,過度的重新校準(zhǔn)就會(huì)負(fù)面地影響樣本處理量,并且會(huì)干擾通常用于質(zhì)譜分析的色譜過程。
樣本處理量的這個(gè)問題的一個(gè)解決方案是采用所謂的“內(nèi)部鎖定質(zhì)量”,也就是說,與樣本混合并具有已知m/z的離子種類。內(nèi)部鎖定質(zhì)量可在樣本制備階段與樣本混合,也可從環(huán)境污染物(例如在色譜法和/或電離過程中由裝置或其消耗品發(fā)出的分子)產(chǎn)生,前提是其具有已知質(zhì)荷比。接著,可使用鎖定質(zhì)量在每個(gè)頻譜中校正樣本離子種類m/z或TOF。如果已知鎖定質(zhì)量離子的測得的m/z或TOF偏移,則接著對(duì)樣本離子的測得的m/z或TOF進(jìn)行全局調(diào)整以校正所述偏移。所施加的調(diào)整是對(duì)所有離子的測得的質(zhì)荷比的全局調(diào)整,并且反映以下實(shí)情:由于例如溫度的升高,測得的質(zhì)荷比存在全局偏移。
在許多專利公開案中已論述了對(duì)質(zhì)譜儀中的校準(zhǔn)漂移問題的各種特定解決方法。例如,US-B2-7,518,104公開了一種用于確定參數(shù)何時(shí)充分改變以保證重新校準(zhǔn)的方法。
US-B2-9,881,776采取了不同的方法,并在分析物信號(hào)低于特定閾值時(shí)進(jìn)行重新校準(zhǔn),以避免干擾分析物峰,使得重新校準(zhǔn)測量不會(huì)占用可用于ms/ms分析的時(shí)間。US-B2-9,805,920提出了響應(yīng)于內(nèi)部或外部鎖定質(zhì)量的測得的或估計(jì)的m/z來校正校準(zhǔn)系數(shù)。
US-B-7,053,365公開了通過使用先前記錄并存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器中的標(biāo)準(zhǔn)頻譜來校正樣本的測得的m/z。
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