[發明專利]質譜儀的質量校準

有效

• 申請號: 202010079357.9
• 申請日: 2020-02-05
• 公開（公告）號: CN111554559B
• 公開（公告）日: 2023-05-26
• 發明（設計）人: A·詹納考普洛斯
• 申請（專利權）人: 塞莫費雪科學(不來梅)有限公司
• 主分類號: H01J49/00
• 分類號: H01J49/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳潔;周全

1.一種校準質譜儀的方法，其包括：

(a)執行所述質譜儀的初步質量校準；

(b)將要分析的樣本的離子從第一離子源引入到所述質譜儀中；

(c)在時間段t內，使用所述質譜儀的質量分析器獲得樣本離子數據，所述樣本離子數據表示源自要分析的所述樣本的一種或多種樣本離子的質荷比；

(d)使用質量校準來校正所述樣本離子數據；

(e)在所述時間段t結束時，將外部校準物離子從第二離子源引入到所述質譜儀中；

(f)使用所述質譜儀的所述質量分析器獲得表示所述外部校準物離子的質荷比的外部校準物離子數據，將所述外部校準物離子與所述樣本離子分別引入到所述質譜儀中以在沒有樣本離子的情況下獲得所述外部校準物離子數據；

(g)使用所述初步質量校準來校正所述外部校準物離子數據，從而生成校正的外部校準物離子數據；

(h)將所述校正的外部校準物離子數據與表示所述外部校準物離子的參考質荷比的參考外部校準物離子數據進行比較，以生成表示所述校正的外部校準物離子數據與所述參考外部校準物離子數據之間的質量差的偏移值；

(i)將所述偏移值與閾值進行比較；

(j)如果所述偏移值低于所述閾值，則使用所述校正的外部校準物離子數據修改所述初步質量校準，以生成修改的初步質量校準；

(k)如果所述偏移值高于所述閾值，則對所述質譜儀執行重新校準以生成更新后的質量校準；

其中步驟(d)中用于校正所述樣本離子數據的所述質量校準是以下之一：步驟(a)的所述初步質量校準、步驟(j)的所述修改的初步質量校準或步驟(k)的所述更新后的質量校準。

2.根據權利要求1所述的方法，其還包括在步驟(k)之后，用所述更新后的質量校準取代在步驟(a)中獲得的所述初步質量校準，并且用所述更新后的質量校準重復步驟(b)至(k)。

3.根據權利要求1所述的方法，其還包括：在步驟(j)之后，用所述修改的初步質量校準取代所述初步質量校準，并且用所述修改的初步質量校準重復步驟(b)至(k)。

4.根據權利要求2或權利要求3所述的方法，其中在重復的步驟(c)中獲得所述樣本離子數據的所述時間段t在長度上與在步驟(c)的之前迭代期間獲得所述樣本離子數據的所述時間段t相同。

5.根據權利要求2或權利要求3所述的方法，其中在重復的步驟(c)中獲得所述樣本離子數據的所述時間段t與在步驟(c)的先前迭代期間獲得所述樣本離子數據的所述時間段t不同。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中執行初步質量校準的步驟(a)包括

(i)將離子的校準混合物引入到所述質量分析器中，所述校準混合物包括具有已知質荷比的多個離子種類；

(ii)使用所述質量分析器分析所述校準混合物中的所述離子；

(iii)獲得校準混合物離子數據，其表示質荷比已知的所述校準混合物中的所述離子的測得質荷比；以及

(iv)根據所述校準混合物離子數據與表示所述校準混合物中的所述離子的已知質荷比的參考數據的比較得出所述初步質量校準。

7.根據權利要求6所述的方法，其中得出所述初步質量校準的步驟(iv)包括通過使用回歸分析將所述校準混合物離子數據擬合到所述參考數據來生成初步校準曲線。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中步驟(k)包括

(i)將一個或多個鎖定質量離子種類添加到要分析的所述樣本，在一個或多個鎖定質量離子種類尚未存在于要分析的所述樣本中的情況下，每個鎖定質量離子種類具有已知質荷比和/或飛行時間TOF；

(ii)使用所述質量分析器分析所述樣本離子夾帶的所述鎖定質量離子；

(iii)獲得鎖定質量離子數據，其表示質荷比已知的所述鎖定質量離子的測得質荷比；以及

(iv)根據所述鎖定質量離子數據與表示所述鎖定質量離子的所述已知質荷比的參考數據的比較，得出更新后的初步質量校準以在所述方法的進一步迭代中替代現有初步質量校準。