[發(fā)明專(zhuān)利]一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010077544.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111175300A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖林林;魏取好;馮景;汪小桐;孔娜娜;曹梅;張龍;孫慕臻 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海市奉賢區(qū)中心醫(yī)院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/84 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/84 |
| 代理公司: | 北京卓嵐智財(cái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11624 | 代理人: | 郭智 |
| 地址: | 200000 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 細(xì)菌 耐藥性 產(chǎn)生 實(shí)時(shí) 觀測(cè) 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及細(xì)菌檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體地說(shuō),涉及一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)。其包括培養(yǎng)基模具、檢測(cè)相機(jī)和分析電腦,培養(yǎng)基模具的頂部開(kāi)設(shè)培養(yǎng)槽,培養(yǎng)基模具的一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽處等間距設(shè)置有位置標(biāo)識(shí)槽,培養(yǎng)基模具的另一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽處等間距設(shè)置有濃度標(biāo)識(shí)槽。該細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)中,在培養(yǎng)基模具上開(kāi)設(shè)相鄰的培養(yǎng)槽,培養(yǎng)槽內(nèi)抗生素濃度為梯度分布,能夠體現(xiàn)細(xì)菌對(duì)抗生素的適應(yīng)性,進(jìn)而有效觀測(cè)到細(xì)菌實(shí)際耐藥性產(chǎn)生的過(guò)程,采用檢測(cè)相機(jī)實(shí)時(shí)拍攝并記錄細(xì)菌在不同濃度抗生素培養(yǎng)基中生長(zhǎng)狀況,對(duì)細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生的過(guò)程進(jìn)行記錄,可直觀的觀測(cè)和記錄細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生的過(guò)程。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及細(xì)菌檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體地說(shuō),涉及一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的耐藥性檢測(cè)手段為將同一株菌接種于不同培養(yǎng)基中(抗生素濃度不同),培養(yǎng)一定時(shí)間后,終點(diǎn)觀測(cè)法,判斷細(xì)菌對(duì)某一種抗生素的耐藥性,此方法忽略了細(xì)菌對(duì)抗生素的適應(yīng)性,不能有效觀測(cè)到細(xì)菌實(shí)際耐藥性產(chǎn)生的過(guò)程。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。本發(fā)明將菌株接種于含最低濃度梯度抗生素培養(yǎng)基中,隨著時(shí)間的推移,能夠抵抗較高濃度抗生素的細(xì)菌開(kāi)始在高一梯度濃度抗生素培養(yǎng)基中生長(zhǎng),誘導(dǎo)篩選耐藥菌株生長(zhǎng),由此可以出現(xiàn)細(xì)菌爬梯現(xiàn)象。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),包括培養(yǎng)基模具、檢測(cè)相機(jī)和分析電腦,所述培養(yǎng)基模具的頂部開(kāi)設(shè)有十個(gè)尺寸相等的培養(yǎng)槽,所述培養(yǎng)基模具的一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽處等間距設(shè)置有位置標(biāo)識(shí)槽,所述位置標(biāo)識(shí)槽設(shè)置有十個(gè),自左向右設(shè)置的位置標(biāo)識(shí)槽內(nèi)依次設(shè)置有用于顯示培養(yǎng)槽位置的位置顯示卡片,所述培養(yǎng)基模具的另一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽處等間距設(shè)置有濃度標(biāo)識(shí)槽,所述濃度標(biāo)識(shí)槽設(shè)置有十個(gè),自左向右設(shè)置的濃度標(biāo)識(shí)槽內(nèi)依次設(shè)置有用于顯示培養(yǎng)槽內(nèi)抗生素濃度的濃度顯示卡片,所述檢測(cè)相機(jī)位于培養(yǎng)基模具的正上方,所述檢測(cè)相機(jī)通過(guò)連接板固定于培養(yǎng)基模具外壁處。
作為優(yōu)選,兩個(gè)相鄰的培養(yǎng)槽之間通過(guò)卡槽擋板隔開(kāi)。
作為優(yōu)選,所述培養(yǎng)基模具外壁一側(cè)中心位置安裝有固定盒,所述固定盒的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有與連接板插接配合的插槽。
作為優(yōu)選,所述連接板的底部開(kāi)設(shè)有螺紋槽,所述固定盒的外壁開(kāi)設(shè)有通孔,所述通孔內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有與螺紋槽螺紋連接的固定螺栓。
作為優(yōu)選,所述通孔和螺紋槽設(shè)置有三個(gè),所述通孔和螺紋槽呈三角形盤(pán)排列。
作為優(yōu)選,所述檢測(cè)方法包括如下步驟:
S1、對(duì)應(yīng)濃度顯示卡片的信息在相應(yīng)的培養(yǎng)槽內(nèi)加入抗生素;
S2、將同一株菌,接種于彼此相連接的不同抗生素濃度的培養(yǎng)槽;
S3、檢測(cè)相機(jī)實(shí)時(shí)采集出培養(yǎng)槽的模擬圖像信號(hào);
S4、將模擬圖像信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào);
S5、將電信號(hào)放大后,轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào);
S6、將數(shù)字信號(hào)通過(guò)以太網(wǎng)送入CPLD緩存;
S7、緩存的數(shù)字信號(hào)通過(guò)EDMA通道輸入到分析電腦的RAM中進(jìn)行圖像處理。
作為優(yōu)選,所述分析電腦內(nèi)設(shè)置有圖像處理模塊、形狀檢測(cè)模塊和顏色檢測(cè)模塊。
作為優(yōu)選,所述圖像處理模塊的處理方法包括以下步驟:
S1.1、設(shè)圖像在像素點(diǎn)(i,j)處的灰度值f(i,j),考慮以像素點(diǎn)(i,j)為中心的(2ω+1)×(2ω+1)窗口;
S1.2、計(jì)算圖像中各個(gè)像素點(diǎn)(i,j)的閾值T(i,j);
S1.3、對(duì)圖像中各像素點(diǎn)(i,j)用b(i,j)值逐點(diǎn)進(jìn)行二值化;
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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