[發(fā)明專利]一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010077544.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111175300A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖林林;魏取好;馮景;汪小桐;孔娜娜;曹梅;張龍;孫慕臻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海市奉賢區(qū)中心醫(yī)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/84 | 分類號(hào): | G01N21/84 |
| 代理公司: | 北京卓嵐智財(cái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11624 | 代理人: | 郭智 |
| 地址: | 200000 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 細(xì)菌 耐藥性 產(chǎn)生 實(shí)時(shí) 觀測(cè) 系統(tǒng) | ||
1.一種細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),包括培養(yǎng)基模具(1)、檢測(cè)相機(jī)(2)和分析電腦(3),其特征在于:所述培養(yǎng)基模具(1)的頂部開設(shè)有十個(gè)尺寸相等的培養(yǎng)槽(11),所述培養(yǎng)基模具(1)的一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽(11)處等間距設(shè)置有位置標(biāo)識(shí)槽(14),所述位置標(biāo)識(shí)槽(14)設(shè)置有十個(gè),自左向右設(shè)置的位置標(biāo)識(shí)槽(14)內(nèi)依次設(shè)置有用于顯示培養(yǎng)槽(11)位置的位置顯示卡片(15),所述培養(yǎng)基模具(1)的另一側(cè)外壁對(duì)應(yīng)培養(yǎng)槽(11)處等間距設(shè)置有濃度標(biāo)識(shí)槽(12),所述濃度標(biāo)識(shí)槽(12)設(shè)置有十個(gè),自左向右設(shè)置的濃度標(biāo)識(shí)槽(12)內(nèi)依次設(shè)置有用于顯示培養(yǎng)槽(11)內(nèi)抗生素濃度的濃度顯示卡片(13),所述檢測(cè)相機(jī)(2)位于培養(yǎng)基模具(1)的正上方,所述檢測(cè)相機(jī)(2)通過(guò)連接板(21)固定于培養(yǎng)基模具(1)外壁處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:兩個(gè)相鄰的培養(yǎng)槽(11)之間通過(guò)卡槽擋板(16)隔開。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述培養(yǎng)基模具(1)外壁一側(cè)中心位置安裝有固定盒(17),所述固定盒(17)的內(nèi)部開設(shè)有與連接板(21)插接配合的插槽(171)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述連接板(21)的底部開設(shè)有螺紋槽(22),所述固定盒(17)的外壁開設(shè)有通孔(172),所述通孔(172)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有與螺紋槽(22)螺紋連接的固定螺栓(173)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述通孔(172)和螺紋槽(22)設(shè)置有三個(gè),所述通孔(172)和螺紋槽(22)呈三角形盤排列。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其檢測(cè)方法包括如下步驟:
S1、對(duì)應(yīng)濃度顯示卡片(13)的信息在相應(yīng)的培養(yǎng)槽(11)內(nèi)加入抗生素;
S2、將同一株菌,接種于彼此相連接的不同抗生素濃度的培養(yǎng)槽(11);
S3、檢測(cè)相機(jī)(2)實(shí)時(shí)采集出培養(yǎng)槽(11)的模擬圖像信號(hào);
S4、將模擬圖像信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào);
S5、將電信號(hào)放大后,轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào);
S6、將數(shù)字信號(hào)通過(guò)以太網(wǎng)送入CPLD緩存;
S7、緩存的數(shù)字信號(hào)通過(guò)EDMA通道輸入到分析電腦(3)的RAM中進(jìn)行圖像處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述分析電腦(3)內(nèi)設(shè)置有圖像處理模塊(31)、形狀檢測(cè)模塊(32)和顏色檢測(cè)模塊(33)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述圖像處理模塊(31)的處理方法包括以下步驟:
S1.1、設(shè)圖像在像素點(diǎn)(i,j)處的灰度值f(i,j),考慮以像素點(diǎn)(i,j)為中心的(2ω+1)×(2ω+1)窗口;
S1.2、計(jì)算圖像中各個(gè)像素點(diǎn)(i,j)的閾值T(i,j);
S1.3、對(duì)圖像中各像素點(diǎn)(i,j)用b(i,j)值逐點(diǎn)進(jìn)行二值化;
S1.4、選取一個(gè)靜止參考幀作為背景圖像;
S1.5、對(duì)輸人圖像的每個(gè)像素,計(jì)算它與對(duì)應(yīng)背景圖像中像素的差。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述形狀檢測(cè)模塊(32)采用廓分析算法,其算法包括如下步驟:
S2.1、若圖像f(x,y)的灰度區(qū)間為[Zmin,Zmax];
S2.2、在該區(qū)間內(nèi)設(shè)定一個(gè)閾值Zt,且ZminZtZmax;
S2.3、令圖像中所有灰度值小于或等于Zt的像素的灰度都為0,大于Zt的像素的新灰度都為1;
S2.4、閾值分割構(gòu)建出一個(gè)輸出的二值圖像ft(x,y),
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的細(xì)菌耐藥性產(chǎn)生實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng),其特征在于:所述顏色檢測(cè)模塊(33)的公式如下:
Gray=0.3×R+0.59×G+0.11×B。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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