[發明專利]基板處理裝置和基板處理方法

在審

• 申請號: 202010075305.4
• 申請日: 2020-01-22
• 公開（公告）號: CN111515811A
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 柏木誠;?？普娣[
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B21/04
• 分類號: B24B21/04;B24B37/005;B24B37/04;B24B37/10;B24B37/30;B24B47/20;B24B49/12;H01L21/67
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

定心臺，該定心臺保持基板的下表面內的第一區域；

處理臺，該處理臺保持所述基板的下表面內的第二區域；

工作臺升降機構，該工作臺升降機構使所述定心臺在比所述處理臺高的上升位置與比所述處理臺低的下降位置之間移動；

處理臺旋轉機構，該處理臺旋轉機構使所述處理臺以該處理臺的軸心為中心進行旋轉；

偏心檢測機構，該偏心檢測機構取得由所述定心臺保持時的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心量和偏心方向；以及

對準器，該對準器基于所述定心臺所保持的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心量和偏心方向而執行使所述基板的中心與所述處理臺的軸心對準的定心動作，

所述對準器在將所述基板從所述定心臺交接到所述處理臺并進行保持之后，使用所述偏心檢測機構而取得所述處理臺所保持的所述基板的中心相對于所述處理臺的軸心的偏心量和偏心方向，

所述對準器確認所取得的所述基板的中心相對于所述處理臺的軸心的偏心量處于規定的允許范圍內。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所取得的所述基板的中心相對于所述處理臺的軸心的偏心量處于規定的允許范圍外的情況下，所述對準器重復進行所述定心動作。

3.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述偏心檢測機構包含偏心檢測部，該偏心檢測部對所述定心臺所保持的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心量和偏心方向、以及所述處理臺所保持的所述基板的中心相對于所述處理臺的軸心的偏心量和偏心方向進行測定，

所述偏心檢測部是具備發出光的投光部、以及接收由所述投光部發出的光的受光部的光學式偏心傳感器，

所述投光部與所述受光部之間的鉛垂方向的距離被設定為比位于偏心檢測位置的所述定心臺所保持的所述基板的上表面與所述處理臺的外緣之間的距離大。

4.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述偏心檢測機構包含偏心檢測部，該偏心檢測部對所述定心臺所保持的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心量和偏心方向、以及所述處理臺所保持的所述基板的中心相對于所述處理臺的軸心的偏心量和偏心方向進行測定，

所述偏心檢測部具備拍攝裝置、以及朝向所述拍攝裝置發出光的投光裝置。

5.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述對準器具備：

定心臺旋轉機構，該定心臺旋轉機構使所述定心臺旋轉，直到所述定心臺所保持的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心方向與水平延伸的規定的偏置軸平行為止；以及

移動機構，該移動機構使所述定心臺沿著所述偏置軸移動，直到所述定心臺所保持的所述基板的中心位于所述處理臺的軸心上為止。

6.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述對準器執行如下的定心準備動作：使用所述偏心檢測機構而取得所述定心臺的軸心相對于所述處理臺的軸心的初始相對位置，

所述對準器基于所述初始相對位置、以及所述定心臺所保持的所述基板的中心相對于所述定心臺的軸心的偏心量和偏心方向而執行所述定心動作。

7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述對準器具備：

定心臺旋轉機構，該定心臺旋轉機構使所述定心臺旋轉，直到所述定心臺上的所述基板的中心位于通過所述處理臺的軸心且與所述規定的偏置軸平行地延伸的直線上為止；以及

移動機構，該移動機構使所述定心臺沿著規定的偏置軸移動，直到所述定心臺所保持的所述基板的中心位于所述處理臺的軸心上為止。