[發明專利]彩膜基板、其制造方法、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請號: | 202010075121.8 | 申請日: | 2020-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN111161632B | 公開(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發明(設計)人: | 楊峰;方業周;陳強;李曉錦;朱芳 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G09F9/00;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彩膜基板 制造 方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本申請公開了一種彩膜基板、其制造方法、顯示面板及顯示裝置。該彩膜基板包括襯底基板、以及設置于襯底基板上的黑矩陣,黑矩陣包括沿子像素長度方向延伸的第一遮光條和沿子像素寬度方向延伸的第二遮光條,第一遮光條采用金屬材料制成。根據本申請實施例提供的技術方案,通過將沿子像素長度方向延伸的第一遮光條采用金屬材料,能夠解決傳統的第一遮光條的寬度無法滿足超高PPI顯示裝置的要求。
技術領域
本公開一般涉及顯示技術領域,尤其涉及彩膜基板、其制造方法、顯示面板及顯示裝置。
背景技術
目前常規Mobile產品豎向黑矩陣范圍是4~5μm,橫向黑矩陣寬度范圍是13~15μm(微米)。隨著顯示設備分辨率要求的提高,彩膜基板中每個色阻片的密集程度越來越高,從而對相鄰的色阻片之間的黑矩陣寬度的要求也越來越窄。VR產品中要求豎向黑矩陣寬度需求3~4μm,橫向黑矩陣的寬度同樣需要壓縮。超高PPI產品(通常指PPI>1200的顯示設備)對于黑矩陣關鍵線寬(Black Matrix Critical Dimension,BM CD)壓縮需求將更高。而由于BM材料本身及工藝制約,BM CD不可以無限制縮小。另外,目前VR產品BM CD達到3.5μm時,在色阻片的邊緣產生BM毛刺或毛邊的問題,影響產品畫面品質。
發明內容
本發明人的主要目的在于提供一種彩膜基板、其制造方法、顯示面板及顯示裝置,以獲得進一步縮小的黑矩陣的寬度的效果,使得超高PPI產品擺脫了黑矩陣線寬帶來的限制。
第一方面、提供一種彩膜基板,
彩膜基板包括襯底基板、以及設置于襯底基板上的黑矩陣,黑矩陣包括沿子像素長度方向延伸的第一遮光條和沿子像素寬度方向延伸的第二遮光條,第一遮光條采用金屬材料制成。
在一些實施例中,邊緣遮光條與第一遮光條同層設置,其材料與第一遮光條的材料相同;
邊緣遮光條沿子像素寬度方向延伸,并與每個第一遮光條連接。
在一些實施例中,邊緣遮光條與地線連接。
在一些實施例中,第二遮光條采用有機材料制成。
在一些實施例中,第二遮光條與第一遮光條的材料相同。
在一些實施例中,金屬材料為鉬。
第二方面、提供一種彩膜基板的制造方法,制造方法包括:
在襯底基板上形成沿像素長度方向延伸的第一遮光條圖案,第一遮光條采用金屬材料制成;
在第一遮光條上形成沿像素寬度方向延伸的第二遮光條圖案,第二遮光條采用有機材料制成;
在第一遮光條與第二遮光條形成的陳列排列的像素區域形成色阻片。
第三方面、提供一種彩膜基板的制造方法,制造方法包括:
在襯底基板上形成沿像素寬度方向延伸的第二遮光條圖案,第二遮光條采用有機材料制成;
在第二遮光條上形成沿像素長度方向延伸的第一遮光條圖案,第一遮光條采用金屬材料制成;
在第一遮光條與第二遮光條形成的陳列排列的像素區域形成色阻片。
第四方面、提供一種顯示面板,顯示面板包括本申請各實施例所提供的彩膜基板。
第五方面,一種顯示裝置,顯示裝置包括本申請各實施例所提供的顯示面板。
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