[發(fā)明專利]排氣裝置、處理系統(tǒng)和處理方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010074928.X
• 申請日: 2020-01-22
• 公開（公告）號: CN111519167A
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 本山豐;兼村瑠威
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54;C23C16/02;C23C16/56;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種排氣裝置，其特征在于，包括：

設(shè)置于與處理容器連接的排氣配管的第1壓力調(diào)節(jié)部；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的下游側(cè)的第2壓力調(diào)節(jié)部；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的上游側(cè)的第1真空計；和

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部與所述第2壓力調(diào)節(jié)部之間的第2真空計。

2.如權(quán)利要求1所述的排氣裝置，其特征在于：

包括控制所述第1壓力調(diào)節(jié)部和所述第2壓力調(diào)節(jié)部的控制部，

所述控制部調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部以使得由所述第2真空計檢測的壓力成為預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值。

3.如權(quán)利要求2所述的排氣裝置，其特征在于：

所述控制部在所述處理容器內(nèi)進行成膜前調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部。

4.如權(quán)利要求2或3所述的排氣裝置，其特征在于：

所述第2真空計經(jīng)由隔離閥與所述排氣配管連接。

5.如權(quán)利要求4所述的排氣裝置，其特征在于：

所述控制部在所述處理容器內(nèi)進行成膜時關(guān)閉所述隔離閥。

6.如權(quán)利要求2～5中任一項所述的排氣裝置，其特征在于：

所述控制部，在對所述處理容器內(nèi)供給了非活性氣體的狀態(tài)下調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部。

7.如權(quán)利要求2～6中任一項所述的排氣裝置，其特征在于：

所述控制部，在將所述處理容器內(nèi)維持在一定溫度的狀態(tài)下調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部。

8.如權(quán)利要求2～7中任一項所述的排氣裝置，其特征在于：

所述控制部，在將所述處理容器內(nèi)控制為規(guī)定的壓力以上的情況下，調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部以使得所述第2壓力調(diào)節(jié)部的流導(dǎo)變小之后，調(diào)節(jié)所述第1壓力調(diào)節(jié)部以使得所述處理容器內(nèi)成為所希望的壓力。

9.一種處理系統(tǒng)，其特征在于：

具有多個處理裝置，該處理裝置包括：

設(shè)置于與處理容器連接的排氣配管的第1壓力調(diào)節(jié)部；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的上游側(cè)的第1真空計；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的下游側(cè)的第2壓力調(diào)節(jié)部；和

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部與所述第2壓力調(diào)節(jié)部之間的第2真空計，

所述處理系統(tǒng)具有控制部，該控制部調(diào)節(jié)多個所述處理裝置各自的所述第2壓力調(diào)節(jié)部以使得由多個所述處理裝置各自的所述第2真空計檢測的壓力成為大致相同的。

10.一種使用處理裝置的處理方法，其特征在于：

該處理裝置包括：

設(shè)置于與處理容器連接的排氣配管的第1壓力調(diào)節(jié)部；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的上游側(cè)的第1真空計；

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部的下游側(cè)的第2壓力調(diào)節(jié)部；和

設(shè)置于所述第1壓力調(diào)節(jié)部與所述第2壓力調(diào)節(jié)部之間的第2真空計，

所述處理方法調(diào)節(jié)所述第2壓力調(diào)節(jié)部以使得由所述第2真空計檢測的壓力成為預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值。