[發(fā)明專利]一種高碳/氧原子比無雜質(zhì)還原氧化石墨烯的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010070989.9 | 申請日： | 2020-01-21 |
| 公開（公告）號： | CN111204742A | 公開（公告）日： | 2020-05-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊鵬;趙健;李倩;苗變梁;皮和木 | 申請（專利權(quán)）人： | 陜西師范大學(xué) |
| 主分類號： | C01B32/184 | 分類號： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 西安永生專利代理有限責(zé)任公司 61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氧原子 雜質(zhì) 還原 氧化 石墨 制備 方法 | ||
1.一種高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：將氧化石墨烯水溶液與三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽水溶液混合均勻，所得混合液在密閉條件下25～100℃進(jìn)行還原反應(yīng)，反應(yīng)后的混合物經(jīng)微孔濾膜過濾、水洗，收集濾餅，烘干，得到高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所得混合液中氧化石墨烯與三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽的質(zhì)量比為1:1～1:50。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所得混合液中氧化石墨烯與三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽的質(zhì)量比為1:3～1:20。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3任意一項(xiàng)所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的濃度為0.1～10mg/mL。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的濃度為0.5～5mg/mL。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述氧化石墨烯水溶液是將氧化石墨烯與水混合后超聲分散5～10分鐘制得，所述超聲的功率為300～700W。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～3任意一項(xiàng)所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽水溶液中三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽的濃度為5～100mmol/L。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽水溶液中三(2-羧乙基)膦鹽酸鹽的濃度為10～60mmol/L。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所得混合液在密閉條件下80～95℃進(jìn)行還原反應(yīng)，反應(yīng)時(shí)間為6～24小時(shí)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高碳/氧原子比無雜質(zhì)的還原氧化石墨烯的制備方法，其特征在于：所述微孔濾膜是孔徑為0.22～0.8μm的醋酸纖維濾膜。
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