[發(fā)明專利]顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法及系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010068518.4
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111291928A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周利鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G06Q10/04
• 分類號: G06Q10/04;G06F16/2458;G06N20/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

本發(fā)明提供一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法及系統(tǒng)，通過采集大量的機(jī)臺設(shè)備的制程參數(shù)建立數(shù)據(jù)庫，采用機(jī)器學(xué)習(xí)的方法進(jìn)行預(yù)測模型的建立，并預(yù)測下一時刻制程參數(shù)的最優(yōu)值，使制程參數(shù)偏離最優(yōu)值的趨勢得到有效控制。進(jìn)而保證了制程穩(wěn)定性，提高了設(shè)備的抗干擾性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及面板技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法及系統(tǒng)。

背景技術(shù)

顯示面板的設(shè)備制程參數(shù)依賴人員經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行設(shè)定，當(dāng)工藝調(diào)整或產(chǎn)品切換時，制程參數(shù)調(diào)整具有滯后性；部分參數(shù)設(shè)定不合理影響產(chǎn)品良率，造成產(chǎn)能及生產(chǎn)材料及人力成本浪費(fèi)，會出現(xiàn)如下的問題：1、產(chǎn)品良率損失，2、產(chǎn)能損失，3、設(shè)備異常損耗，4、生產(chǎn)材料浪費(fèi)，5、參數(shù)設(shè)定，調(diào)整及異常參數(shù)排查所需人力成本損失。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，提供一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法及系統(tǒng)，采用機(jī)器學(xué)習(xí)的方法進(jìn)行預(yù)測模型的建立，并預(yù)測下一時刻制程參數(shù)的最優(yōu)值，使制程參數(shù)偏離最優(yōu)值的趨勢得到有效控制。進(jìn)而保證了制程穩(wěn)定性，提高了設(shè)備的抗干擾性。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，包括如下步驟：數(shù)據(jù)庫建立步驟，建立一數(shù)據(jù)庫，獲取面板生產(chǎn)線上的面板的歷史制程參數(shù)數(shù)據(jù)并存入所述數(shù)據(jù)庫中；樣本采集步驟，從所述數(shù)據(jù)庫中采集一樣本數(shù)據(jù)；數(shù)據(jù)預(yù)處理步驟，對所述樣本數(shù)據(jù)集進(jìn)行參數(shù)無量綱化和歸一化預(yù)處理；預(yù)測步驟，基于預(yù)處理后得到的數(shù)據(jù)建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型并預(yù)測下一時間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值，所述最優(yōu)值為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的預(yù)測值。

進(jìn)一步地，還包括：調(diào)整步驟，將所述的下一時間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值發(fā)送至相應(yīng)的機(jī)臺，并自動更新所述機(jī)臺的制程參數(shù)。

進(jìn)一步地，還包括：判斷步驟，在面板制備的過程中，若一機(jī)臺的制程參數(shù)值超過相應(yīng)最優(yōu)值的預(yù)設(shè)值，則停止該機(jī)臺的生產(chǎn)工作。

進(jìn)一步地，所述預(yù)測步驟中，所述建立機(jī)器學(xué)習(xí)步驟包括：樣本分類步驟，將所述樣本數(shù)據(jù)隨機(jī)分成訓(xùn)練樣本及測試樣本兩類；模型構(gòu)建步驟，將所述樣本數(shù)據(jù)帶入機(jī)器學(xué)習(xí)模型公式構(gòu)建學(xué)習(xí)模型；模型測試步驟，輸入所述測試樣本得到預(yù)測值；模型優(yōu)化步驟，以所述測試樣本的預(yù)測值和真實(shí)值的最小均方誤差為標(biāo)準(zhǔn)，不斷調(diào)整模型參數(shù)并利用梯度下降算法求得模型參數(shù)的最優(yōu)數(shù)值，最后得到最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

進(jìn)一步地，所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型采用線性回歸或神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型。

本發(fā)明還提供一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，包括數(shù)據(jù)庫以及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)；所述數(shù)據(jù)庫中包括面板生產(chǎn)線上的面板的制程參數(shù)數(shù)據(jù)；所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)包括：樣本采集單元，從所述數(shù)據(jù)庫中采集一樣本數(shù)據(jù)；數(shù)據(jù)預(yù)處理單元，對所述樣本數(shù)據(jù)集進(jìn)行參數(shù)無量綱化和歸一化預(yù)處理；模型構(gòu)建單元，基于預(yù)處理后得到的數(shù)據(jù)，建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型，并預(yù)測下一時間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值，所述最優(yōu)值為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的預(yù)測值。

進(jìn)一步地，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)還包括：調(diào)整單元，將所述的下一時間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值發(fā)送至相應(yīng)的機(jī)臺，并自動更新參數(shù)。

進(jìn)一步地，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)還包括：判斷單元，在面板制備的過程中，若一機(jī)臺的制程參數(shù)超過相應(yīng)最優(yōu)值，則停止該機(jī)臺的生產(chǎn)工作。

進(jìn)一步地，所述模型構(gòu)建單元具體包括：樣本分類單元，將所述樣本數(shù)據(jù)隨機(jī)分成訓(xùn)練樣本及測試樣本兩類；模型構(gòu)建單元，將所述樣本數(shù)據(jù)帶入機(jī)器學(xué)習(xí)模型公式構(gòu)建學(xué)習(xí)模型；模型測試單元，輸入所述測試樣本得到預(yù)測值；模型優(yōu)化單元，以所述測試樣本的預(yù)測值和真實(shí)值的最小均方誤差為標(biāo)準(zhǔn)，不斷調(diào)整模型參數(shù)并利用梯度下降算法求得模型參數(shù)的最優(yōu)數(shù)值，最后得到最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型；預(yù)測單元，根據(jù)最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測下一時間序列的面板制程參數(shù)。

進(jìn)一步地，所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型采用線性回歸或徑向基網(wǎng)絡(luò)模型。