[發(fā)明專利]顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法及系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010068518.4
• 申請(qǐng)日: 2020-01-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111291928A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周利鋒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06Q10/04
• 分類號(hào): G06Q10/04;G06F16/2458;G06N20/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

1.一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，包括如下步驟：

數(shù)據(jù)庫(kù)建立步驟，建立一數(shù)據(jù)庫(kù)，獲取面板生產(chǎn)線上的面板的歷史制程參數(shù)數(shù)據(jù)并存入所述數(shù)據(jù)庫(kù)中；

樣本采集步驟，從所述數(shù)據(jù)庫(kù)中采集一樣本數(shù)據(jù)；

數(shù)據(jù)預(yù)處理步驟，對(duì)所述樣本數(shù)據(jù)集進(jìn)行參數(shù)無(wú)量綱化和歸一化預(yù)處理；

預(yù)測(cè)步驟，基于預(yù)處理后得到的數(shù)據(jù)建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型并預(yù)測(cè)下一時(shí)間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值，所述最優(yōu)值為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的預(yù)測(cè)值。

2.如權(quán)利要求1中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，還包括：

調(diào)整步驟，將所述的下一時(shí)間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值發(fā)送至相應(yīng)的機(jī)臺(tái)，并更新所述機(jī)臺(tái)的制程參數(shù)。

3.如權(quán)利要求2中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，還包括：

判斷步驟，在面板制備的過(guò)程中，若一機(jī)臺(tái)的制程參數(shù)超過(guò)相應(yīng)最優(yōu)值，則停止該機(jī)臺(tái)的生產(chǎn)工作。

4.如權(quán)利要求1中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，

所述預(yù)測(cè)步驟中，所述建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型包括：

樣本分類步驟，將所述樣本數(shù)據(jù)隨機(jī)分成訓(xùn)練樣本及測(cè)試樣本兩類；

模型構(gòu)建步驟，將所述樣本數(shù)據(jù)帶入機(jī)器學(xué)習(xí)模型公式構(gòu)建學(xué)習(xí)模型；

模型測(cè)試步驟，輸入所述測(cè)試樣本得到預(yù)測(cè)值；

模型優(yōu)化步驟，以所述測(cè)試樣本的預(yù)測(cè)值和真實(shí)值的最小均方誤差為標(biāo)準(zhǔn)，不斷調(diào)整模型參數(shù)并利用梯度下降算法求得模型參數(shù)的最優(yōu)數(shù)值，最后得到最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

5.如權(quán)利要求1中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化方法，其特征在于，

所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型采用線性回歸或神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型。

6.一種顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，其特征在于，包括數(shù)據(jù)庫(kù)以及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)；

所述數(shù)據(jù)庫(kù)中包括面板生產(chǎn)線上的面板的歷史制程參數(shù)數(shù)據(jù)；

所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)包括：

樣本采集單元，從所述數(shù)據(jù)庫(kù)中采集一樣本數(shù)據(jù)；

數(shù)據(jù)預(yù)處理單元，對(duì)所述樣本數(shù)據(jù)集進(jìn)行參數(shù)無(wú)量綱化和歸一化預(yù)處理；

模型構(gòu)建單元，基于預(yù)處理后得到的數(shù)據(jù)，建立機(jī)器學(xué)習(xí)模型，并預(yù)測(cè)下一時(shí)間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值，所述最優(yōu)值為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的預(yù)測(cè)值。

7.如權(quán)利要求6中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)還包括：

調(diào)整單元，將所述的下一時(shí)間序列內(nèi)面板制程參數(shù)的最優(yōu)值發(fā)送至相應(yīng)的機(jī)臺(tái)，并更新所述機(jī)臺(tái)的制程參數(shù)。

8.如權(quán)利要求7中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)還包括：

判斷單元，在面板制備的過(guò)程中，若一機(jī)臺(tái)的制程參數(shù)超過(guò)相應(yīng)最優(yōu)值，則停止該機(jī)臺(tái)的生產(chǎn)工作。

9.如權(quán)利要求6中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，其特征在于，

所述模型構(gòu)建單元具體包括：

樣本分類單元，將所述樣本數(shù)據(jù)隨機(jī)分成訓(xùn)練樣本及測(cè)試樣本兩類；

模型構(gòu)建單元，將所述樣本數(shù)據(jù)帶入機(jī)器學(xué)習(xí)模型公式構(gòu)建學(xué)習(xí)模型；

模型測(cè)試單元，輸入所述測(cè)試樣本得到預(yù)測(cè)值；

模型優(yōu)化單元，以所述測(cè)試樣本的預(yù)測(cè)值和真實(shí)值的最小均方誤差為標(biāo)準(zhǔn)，不斷調(diào)整模型參數(shù)并利用梯度下降算法求得模型參數(shù)的最優(yōu)數(shù)值，最后得到最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

預(yù)測(cè)單元，根據(jù)最優(yōu)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測(cè)下一時(shí)間序列的面板制程參數(shù)。

10.如權(quán)利要求6中所述的顯示面板制程參數(shù)的優(yōu)化系統(tǒng)，其特征在于，

所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型采用線性回歸或徑向基網(wǎng)絡(luò)模型。