[發明專利]用于制造顯示面板的新型掩模版及其參數確定方法

在審

• 申請號: 202010068083.3
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111258172A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 郝蕓蕓;韋亞一;董立松;陳睿
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F1/70
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 付婧

1.一種用于制造顯示面板的新型掩模版，包括透光區域和遮光區域，其特征在于，

所述透光區域中包括衍射過渡區域，所述衍射過渡區域與所述遮光區域連接，所述衍射過渡區域中包括一組或多組間隔排列的過渡圖形；

所述過渡圖形與所述透光區域和所述遮光區域相接的臨界線平行；

所述衍射過渡區域中被所述過渡圖形覆蓋的區域不透光。

2.根據權利要求1所述的新型掩模版，其特征在于，所述衍射過渡區域中透光區域和所述過渡圖形按照預設寬度比例間隔分布，間隔排列的所述過渡圖形用于增加所述新型掩模版的衍射區域范圍。

3.根據權利要求1所述的新型掩模版，其特征在于，所述過渡圖形為線形的長條圖形。

4.一種權利要求1-3任一項所述的新型掩模版的參數確定方法，其特征在于，所述方法包括：

確定第一掩模版對應的邊緣衍射區域寬度；

通過仿真方式分別在所述第一掩模版中添加按照不同候選寬度比例排布的過渡圖形序列，得到多個第二掩模版；

根據所述邊緣衍射區域寬度和多個所述第二掩模版，獲得使曝光量分布最均勻的寬度比例和掩模移動距離。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述確定第一掩模版對應的邊緣衍射區域寬度，包括：

通過曝光系統對拼接的第一掩模版進行單次曝光；

獲取所述單次曝光對應的曝光量分布曲線；

根據所述曝光量分布曲線，確定所述第一掩模版中包括的多曝光區域；

將所述多曝光區域的寬度確定為所述第一掩模版對應的邊緣衍射區域寬度。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據所述邊緣衍射區域寬度和多個所述第二掩模版，獲得使曝光量分布最均勻的寬度比例和掩模移動距離，包括：

根據所述邊緣衍射區域寬度，確定多個候選移動距離；

將每個所述第二掩模版分別移動每個所述候選移動距離并進行曝光；

獲取每次曝光對應的曝光量分布曲線對應的曝光質量系數；

將曝光質量系數最高的曝光量分布曲線對應的候選移動距離確定為使曝光量分布最均勻的掩模移動距離；

將曝光質量系數最高的曝光量分布曲線對應的第二掩模版中添加的過渡圖形序列對應的候選寬度比例確定為使曝光量分布最均勻的寬度比例。

7.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述獲得使曝光量分布滿足預設平整分布條件的寬度比例之后，還包括：

在所述第一掩模版中，按照從遮光區域與透光區域的臨界線開始朝所述透光區域延伸的方向，添加按照所述寬度比例排布的過渡圖形序列，得到新型掩模版。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

采用曝光系統通過新型掩模版的透光區域對待拼接區域的襯底基板進行曝光；

將所述新型掩模版移動所述掩模移動距離；

采用所述曝光系統對移動后的所述新型掩模進行曝光，將所述新型掩模版上的掩模圖形以拼接的方式轉移至所述襯底基板上。

9.一種面板制造設備，包括：面板制造機臺的存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器運行所述計算機程序時執行以實現如權利要求4-8任一項所述的方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，其上存儲有計算機可讀指令，所述計算機可讀指令可被處理器執行以實現如權利要求4-8任一項所述的方法。