[發明專利]限制結構、線源裝置及蒸鍍系統

在審

• 申請號: 202010064989.8
• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN111155057A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 鐘紀奇
• 申請（專利權）人: 綿陽京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

1.一種限制結構，其特征在于，包括：

蒸鍍源，固定于一安裝面上，用于噴射蒸鍍材料；

兩個限制板，均固定于所述安裝面上，并相對設置于所述蒸鍍源的兩側，且兩個所述限制板均具有腔體；

吸附孔，設于所述限制板靠近所述蒸鍍源的表面，且與所述腔體連通；

吸附組件，與所述腔體連通，用于通過所述吸附孔吸附所述限制板靠近所述蒸鍍源的表面累積的蒸鍍材料。

2.根據權利要求1所述的限制結構，其特征在于，所述限制板包括：

支撐部，固定于所述安裝面上，并向遠離所述安裝面的一側延伸；

限制部，一端連接于所述支撐部遠離所述安裝面的一端，另一端按照預設角度向靠近所述蒸鍍源的一側延伸；

兩個限制板對應的兩個所述限制部之間具有露出所述蒸鍍源的開口。

3.根據權利要求1所述的限制結構，其特征在于，所述吸附孔的數量為多個，且各所述吸附孔按照預設間距均勻分布于所述限制板靠近所述蒸鍍源的表面。

4.根據權利要求2所述的限制結構，其特征在于，所述支撐部和所述限制部為一體式結構，所述腔體貫通于所述支撐部和所述限制部。

5.根據權利要求2所述的限制結構，其特征在于，通過兩個所述限制部之間的開口限定所述蒸鍍源的蒸鍍角，所述蒸鍍角為45°。

6.一種線源裝置，其特征在于，包括：

權利要求1-5任一項所述的限制結構；以及

坩堝機構，設于所述安裝面遠離所述蒸鍍源的一側，用于向所述蒸鍍源提供蒸鍍材料。

7.根據權利要求6所述的線源裝置，其特征在于，所述線源裝置包括多個所述坩堝機構及多個所述限制結構，且各所述坩堝機構與各所述限制結構一一對應設置。

8.根據權利要求7所述的線源裝置，其特征在于，所述線源裝置包括一一對應設置的兩個所述限制結構及兩個所述坩堝機構，且一所述坩堝機構用于向與其對應的限制結構的蒸鍍源提供蒸鍍主體材料，另一所述坩堝機構用于向與其對應的限制結構的蒸鍍源提供蒸鍍客體材料。

9.根據權利要求6所述的線源裝置，其特征在于，所述線源裝置還包括：

蒸發腔室，用于容納所述限制結構及所述坩堝機構；

控制閥門，設于所述蒸發腔室上；

真空泵，通過所述控制閥門與所述蒸發腔室連通，用于在所述控制閥門打開時調節所述蒸發腔室內的真空度。

10.一種蒸鍍系統，包括權利要求6-9任一項所述的線源裝置。