[發(fā)明專利]輝銻礦的真空熔煉系統(tǒng)及真空熔煉方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010060250.X
• 申請(qǐng)日: 2020-01-19
• 公開（公告）號(hào): CN111139368B
• 公開（公告）日: 2023-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬登;陳學(xué)剛;裴忠冶;郭亞光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國恩菲工程技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C22B30/02
• 分類號(hào): C22B30/02;C22B5/10
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 張美月

本發(fā)明提供了一種輝銻礦的真空熔煉系統(tǒng)及真空熔煉方法。該真空熔煉系統(tǒng)包括：真空熔煉裝置、壓力控制裝置和精煉裝置，真空熔煉裝置設(shè)置有加料口、粗銻出口、排渣口和煙氣出口，加料口用于添加輝銻礦和還原性燃料及堿性添加劑；壓力控制裝置用于控制真空熔煉裝置中的真空度；及精煉裝置設(shè)置有粗銻入口和金屬銻出口，粗銻入口與粗銻出口連通。采用上述真空堿性熔煉系統(tǒng)從輝銻礦中提取金屬銻，不僅有利于大幅提高金屬銻的回收率，簡化工藝流程、降低回收成本，不需要造渣劑，渣量少，還能夠降低環(huán)境污染和硫元素的浪費(fèi)，提高其環(huán)保性，屬于綠色清潔的冶煉方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及輝銻礦冶煉領(lǐng)域，具體而言，涉及一種輝銻礦的真空熔煉系統(tǒng)及真空熔煉方法。

背景技術(shù)

輝銻礦中的主要物相是硫化銻(Sb₂S₃)，輝銻礦的處理工藝氛分為火法工藝和濕法工藝，目前火法冶金工藝占絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，95％以上輝銻礦采用火法工藝冶煉金屬銻。輝銻礦火法冶煉的典型工藝流程為：鼓風(fēng)爐揮發(fā)熔煉-反射爐還原；在熔煉過程中，硫化銻揮發(fā)氧化，同時(shí)脈石造渣由爐缸放出，煙氣收塵得到的氧化銻粉進(jìn)入反射爐還原生產(chǎn)粗銻。

“鼓風(fēng)爐-反射爐”工藝雖然工藝成熟，但是仍存在以下缺點(diǎn)：(1)輝銻礦中硫在鼓風(fēng)爐中大部分變?yōu)镾O₂進(jìn)入煙氣，但在煙氣中的濃度低，產(chǎn)生的煙氣無法制酸，煙氣處理成本高；(2)鼓風(fēng)爐的焦率較高；(3)反射爐工藝的熱效率較低，銻氧粉揮發(fā)量大，銻直收率較低。

為了解決上述問題，現(xiàn)有文獻(xiàn)報(bào)道了富氧側(cè)吹揮發(fā)熔池熔煉生產(chǎn)粗三氧化二銻的方法及裝置(ZL201410173492.4)，輝銻礦采用底吹熔池熔煉連續(xù)煉銻的生產(chǎn)方法及其裝置(201010264738.0)，銻精礦的側(cè)吹氧化熔煉-側(cè)吹還原熔煉方法(ZL201610665922.3)，頂吹熔池熔煉煉銻方法及其熔池熔煉爐(CN201010100003.4)。然而上述冶煉方法和裝置均生成SO₂煙氣，且需要高額的處理成本。

鑒于上述問題的存在，有必要開發(fā)出一種成本較低、銻收率較高的熔煉方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提供一種輝銻礦的真空熔煉系統(tǒng)及真空熔煉方法，以解決現(xiàn)有的輝銻礦熔煉方法存在銻金屬回收率較低和成本高的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明一方面提供了一種輝銻礦的真空熔煉系統(tǒng)。該真空熔煉系統(tǒng)包括：真空熔煉裝置、壓力控制裝置和精煉裝置，真空熔煉裝置設(shè)置有加料口、粗銻出口、排渣口和煙氣出口，加料口用于添加輝銻礦和還原性燃料及堿性添加劑；壓力控制裝置用于控制真空熔煉裝置中的真空度；及精煉裝置設(shè)置有粗銻入口和金屬銻出口，粗銻入口與粗銻出口連通。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括：制粒裝置、堿性添加劑供應(yīng)裝置、還原性燃料供應(yīng)裝置和輝銻礦供應(yīng)裝置。制粒裝置設(shè)置有原料入口和混料出口，混料出口與加料口經(jīng)原料輸送管路連通；堿性添加劑供應(yīng)裝置設(shè)置有堿性添加劑供應(yīng)口，堿性供應(yīng)口與原料入口連通；還原性燃料供應(yīng)裝置設(shè)置有還原性燃料供應(yīng)口，還原性燃料供應(yīng)口與原料入口連通；及輝銻礦供應(yīng)裝置設(shè)置有輝銻礦供應(yīng)口，輝銻礦供應(yīng)口與原料入口連通。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括干燥裝置，干燥裝置設(shè)置在原料輸送管路上。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括粘結(jié)劑供應(yīng)裝置，粘結(jié)劑供應(yīng)裝置設(shè)置有粘結(jié)劑供應(yīng)口，粘結(jié)劑供應(yīng)口與原料入口連通。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括提純裝置，提純裝置設(shè)置有爐渣入口，爐渣入口與排渣口連通，用以從爐渣中回收硫元素。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括：收塵裝置，收塵裝置設(shè)置有煙氣入口和硫化銻煙塵出口，煙氣入口與煙氣出口連通。

進(jìn)一步地，真空熔煉裝置還包括：煙塵回收口，煙塵回收口與硫化銻煙塵出口連通。

進(jìn)一步地，真空熔煉系統(tǒng)還包括破碎裝置，破碎裝置用于控制輝銻礦、還原性燃料和堿性添加劑的粒度。