[發明專利]濃度控制裝置、零點調整方法以及程序存儲介質

在審

• 申請號: 202010059308.9
• 申請日: 2020-01-19
• 公開（公告）號: CN111488003A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 志水徹;南雅和
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場STEC
• 主分類號: G05D11/13
• 分類號: G05D11/13
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 楊敏;金玉蘭

用于提供一種能夠在不中斷半導體制造工藝的情況下適當地實施濃度檢測機構的調零的濃度控制裝置，濃度控制裝置具備：控制閥，其控制在導出流路中流動的氣體；濃度檢測機構，其對在該導出流路中流動的氣體中所含的材料氣體的濃度進行檢測；濃度控制器，其以使由上述濃度檢測機構檢測出的檢測濃度與預先設定的設定濃度之間的偏差變小的方式控制上述控制閥；基準時刻判定部，其對存在于通過上述濃度檢測機構進行濃度檢測的檢測部的氣體已被替換為其他氣體的時刻即基準時刻進行判定；以及調零部，其在基準時刻以后進行上述濃度檢測機構的調零。

技術領域

本發明涉及濃度控制裝置。

背景技術

例如在半導體制造工藝中，對容納有液體或固體的材料的罐導入載氣，使材料汽化而產生材料氣體，從罐導出載氣和材料氣體的混合氣體。這樣的混合氣體中所含的材料氣體的濃度被濃度控制裝置保持在預先設定的設定濃度，并向腔室供給(參照專利文獻1)。

作為現有的壓力控制式的濃度控制裝置，具備：設置于從罐導出混合氣體的導出流路的濃度檢測機構、在上述導出流路中控制混合氣體的總壓的控制閥、以及基于由濃度檢測機構檢測出的檢測濃度和預先設定的設定濃度來控制控制閥的濃度控制器。

為了保持這樣的濃度控制裝置中的濃度的控制精度，需要定期進行調零，以使濃度檢測機構的檢測值不產生溫度漂移等誤差。

然而，如果為了濃度檢測機構的調零，定期中斷半導體制造工藝而進行濃度檢測機構的調零，則會產生產量降低這類問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開昭60-31043號公報

發明內容

技術問題

本發明是鑒于上述那樣的問題而做出的，其目的在于提供一種能夠在不中斷例如半導體制造工藝的情況下適當地實施濃度檢測機構的調零的濃度控制裝置。

技術方案

即，本發明的濃度控制裝置設置于汽化器，上述汽化器具備：容納有材料的罐、將上述材料汽化而成的材料氣體從上述罐向外部導出的導出流路、以及向上述導出流路導入與上述材料氣體不同的其他氣體的氣體供給流路，上述濃度控制裝置具備：控制閥，其控制在上述導出流路中流動的氣體；濃度檢測機構，其設置于上述導出流路，對在該導出流路中流動的氣體中所含的材料氣體的濃度進行檢測；濃度控制器，其以使由上述濃度檢測機構檢測出的檢測濃度與預先設定的設定濃度之間的偏差變小的方式控制上述控制閥；基準時刻判定部，其對存在于通過上述濃度檢測機構進行濃度檢測的檢測部的氣體已被替換為上述其他氣體的時刻即基準時刻進行判定；以及調零部，其在基準時刻以后進行上述濃度檢測機構的調零。

作為這樣的濃度控制裝置，在例如從上述氣體供給流路對上述導出流路僅使其他氣體流動的情況下，能夠利用上述基準時刻判定部自動檢測對存在于通過上述濃度檢測機構進行濃度檢測的檢測部的氣體已充分被上述其他氣體替換的基準時刻。因此，即使不對上述導出流路內抽真空，也對處于在上述導出流路不存在材料氣體而大致僅充滿其他氣體的狀態的情況自動檢測，而使上述調零部能夠適當調整上述濃度檢測機構的零點。

如作為例如ALD(Atomic Layer Deposition：原子層沉積)等向腔室內導入材料氣體的材料氣體供給期間和僅導入其他氣體的吹掃氣體供給期間交替實施這樣的工藝，利用本發明的濃度控制裝置，能夠在不中斷工藝的情況下在僅其他氣體流動的吹掃氣體供給期間逐次進行上述濃度檢測機構的調零。因此，能夠不降低產量，并保持濃度的檢測值的精度和濃度的控制精度。