[發明專利]一種低電阻透明導電膜及其制備方法在審
| 申請號： | 202010059248.0 | 申請日： | 2020-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN111161906A | 公開（公告）日： | 2020-05-15 |
| 發明（設計）人： | 蔡勁銳;魯英杰 | 申請（專利權）人： | 惠州達祺光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01B5/14 | 分類號： | H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京沁優知識產權代理事務所(普通合伙) 11684 | 代理人： | 蔡巖巖 |
| 地址： | 516000 廣東省惠州市仲愷*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電阻 透明 導電 及其 制備 方法 | ||
1.一種低電阻透明導電膜，包括基材(1)，其特征在于，所述的低電阻透明導電膜還包括導電層(2)和保護層(3)，所述的導電層(2)與所述的保護層(3)交替設置；所述的導電層(2)至少兩層，所述的保護層(3)至少兩層，其中一層所述導電層(2)設于所述基材(1)的表面。
2.根據權利要求1所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，設于基材(1)表面的導電層(2)的電阻小于保護層(3)的電阻。
3.根據權利要求2所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，
所述的導電層(2)含有導電組分；優選，所述的導電組分為納米銀、石墨烯、碳納米管或導電高分子中的一種或幾種；
所述的保護層(3)含有樹脂或導電材料；優選，所述的樹脂含有帶共軛結構的化合物、電荷轉移配合物，所述的導電材料為復合導電性高分子材料、氧化銦錫或者無機半導體材料。
4.根據權利要求3所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，
所述的共軛結構為吡咯、噻吩、苯胺及其衍生物、低聚吡咯、低聚噻吩、低聚苯胺或它們之間的共聚物中的一種或多種；
所述的電荷轉移配合物為TMB、TCNQ或兩者形成的電荷轉移配合物；
所述的復合導電性高分子材料為高分子材料內部添加導電填料或者纖維形成的，所述的導電填料為導電碳粉、導電氧化鋅、導電ITO、防靜電ATO中的一種或多種；
所述的無機半導體材料為硒、鍺、單晶硅或者第三主族元素和第五主族元素構成的化合物。
5.根據權利要求1-4任意一項所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，所述的低電阻透明導電膜的方阻為0.1-80Ω/sq，透過率為50-92％，霧度為0.6-20％。
6.根據權利要求5所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，所述的基材為玻璃、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚酰亞胺、聚烯烴、聚酯的一種或者以上材料的共聚物、或混合物、或層壓物、或經過功能化涂層處理得到的薄膜；
優選所述的聚烯烴為聚乙烯，所述的聚酯為聚對苯二甲酸乙二醇酯。
7.根據權利要求6所述的低電阻透明導電膜，其特征在于，所述的基材的厚度為10-200μm，所述的導電層(2)的厚度為10-500nm，所述的保護層(3)的厚度為10-500nm。
8.一種權利要求1-7任意一項所述的低電阻透明導電膜的制備方法，其特征在于，所述的制備方法包括如下步驟：
S1、調制導電層涂布液；
S2、調制保護層涂布液；
S3、將導電層涂布液涂布在基材表面，涂好后干燥或固化，得到導電層；
S4、將保護層涂布液涂布在導電層表面，涂好后干燥或固化，得到保護層；
S5、重復步驟S3和S4，得到所述的低電阻透明導電膜。
9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，步驟S1中，所述的導電層涂布液的組成如下：
10.根據權利要求8或9所述的制備方法，其特征在于，步驟S2中，所述的保護層涂布液的組成如下：
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