[發明專利]曝光機在審
| 申請號： | 202010051349.3 | 申請日： | 2020-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN111123661A | 公開（公告）日： | 2020-05-08 |
| 發明（設計）人： | 張磊 | 申請（專利權）人： | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 楊艇要 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 | ||
1.一種曝光機，其特征在于，包括：
承載平臺，用于承載待曝光基板；以及
負壓裝置，設于所述承載平臺的邊緣，用于排出所述待曝光基板揮發的有機物。
2.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，所述負壓裝置可壓縮回彈式安裝于所述承載平臺的側表面上。
3.根據權利要求1所述的曝光機，其特征在于，
所述曝光機還包括一腔體，所述承載平臺及所述負壓裝置設于所述腔體內部，所述負壓裝置臨近所述承載平臺的一端設有通風口，其另一端通過一管路與所述腔體的外部相連通。
4.根據權利要求3所述的曝光機，其特征在于，所述負壓裝置為多個，分別對應安裝于所述承載平臺的多個側面上。
5.根據權利要求4所述的曝光機，其特征在于，多個所述負壓裝置的總排氣量大于總吹氣量，用于多個所述通風口整體產生負壓吸附所述待曝光基板揮發的有機物。
6.根據權利要求5所述的曝光機，其特征在于，每一所述通風口的氣體壓力均小于50pa；所述氣體壓力包括正壓或負壓。
7.根據權利要求4所述的曝光機，其特征在于，多個所述負壓裝置的頂面位于同一頂平面內，所述頂平面與所述承載平臺所在平面相平行。
8.根據權利要求7所述的曝光機，其特征在于，所述通風口設置于所述負壓裝置的側面，所述通風口朝向所述承載平臺的中部位置；所述通風口位于所述頂平面與所述承載平臺所在平面之間。
9.根據權利要求8所述的曝光機，其特征在于，還包括：
掩模板，置于多個所述負壓裝置之上。
10.根據權利要求7所述的曝光機，其特征在于，所述通風口設置于所述負壓裝置的頂面，所述通風口朝向所述腔體的頂部；多個所述通風口位于所述承載平臺所在平面內。
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