[發明專利]曝光機

在審

• 申請號: 202010051349.3
• 申請日: 2020-01-17
• 公開（公告）號: CN111123661A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 張磊
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

本發明提供一種曝光機。曝光機包括承載平臺以及負壓裝置；所述承載平臺用于承載待曝光基板；所述負壓裝置設于所述承載平臺的邊緣，用于排出所述待曝光基板揮發的有機物。本發明通過增加負壓裝置吸附揮發的有機物，將有機揮發物及時排出曝光機，避免了在曝光機內存在揮發有機物導致影響光路、污染掩模板造成曝光不均，從而保證曝光機內部潔凈度，大大減少有機物對曝光機鏡組及掩模板的污染，并保證了曝光的均一性，提高了良品率。

技術領域

本發明涉及顯示設備技術領域，尤其涉及一種曝光機。

背景技術

薄膜晶體管液晶顯示屏(TFT-LCD)的彩膜基板(CF)在制作過程中，目前彩膜基板曝光機是上風機過濾單元(FFU)進氣壓使得彩膜基板曝光機內部相對于其外部為正壓，通過空氣流動保證彩膜基板曝光機內部的潔凈度，但存在基板光阻有機物揮發污染鏡組的情況。

由于彩膜基板曝光機是掩模板(mask)和彩膜基板接近式曝光，而彩膜基板進入彩膜基板曝光機的機臺后，仍然會揮發有機物，使得彩膜基板曝光機的鏡組存在附著有機揮發物被污染情況，由于鏡組是用于反光形成光路提供曝光光照，因此會影響光路造成彩膜基板上曝光不均。并且有機揮發物也會污染掩模板(mask)，這樣會嚴重影響曝光的均一性，造成曝光后尺寸異常。

發明內容

本發明的目的在于，提供一種曝光機，以解決現有技術中曝光機內存在揮發有機物導致影響光路、污染掩模板造成曝光不均的技術問題。

為了實現上述目的，本發明提供一種曝光機，包括承載平臺以及負壓裝置；所述承載平臺用于承載待曝光基板；所述負壓裝置設于所述承載平臺的邊緣，用于排出所述待曝光基板揮發的有機物。

進一步地，所述負壓裝置可壓縮回彈式安裝于所述承載平臺的側表面上。

進一步地，所述曝光機還包括一腔體，所述承載平臺及所述負壓裝置設于所述腔體內部，所述負壓裝置臨近所述承載平臺的一端設有通風口，其另一端通過一管路與所述腔體的外部相連通。

進一步地，所述負壓裝置為多個，分別對應安裝于所述承載平臺的多個側面上。

進一步地，多個所述負壓裝置的總排氣量大于總吹氣量，用于多個所述通風口整體產生負壓吸附所述待曝光基板揮發的有機物。

進一步地，每一所述通風口的氣體壓力均小于50pa；所述氣體壓力包括正壓或負壓。

進一步地，多個所述負壓裝置的頂面位于同一頂平面內，所述頂平面與所述承載平臺所在平面相平行。

進一步地，所述通風口設置于所述負壓裝置的側面，所述通風口朝向所述承載平臺的中部位置；所述通風口位于所述頂平面與所述承載平臺所在平面之間。

進一步地，所述曝光機還包括：掩模板，置于多個所述負壓裝置之上。

進一步地，所述通風口設置于所述負壓裝置的頂面，所述通風口朝向所述腔體的頂部；多個所述通風口位于所述承載平臺所在平面內。

本發明的有益效果在于，提供一種曝光機，通過增加負壓裝置吸附揮發的有機物，將有機揮發物及時排出曝光機，避免了在曝光機內存在揮發有機物導致影響光路、污染掩模板造成曝光不均，從而保證曝光機內部潔凈度，大大減少有機物對曝光機鏡組及掩模板的污染，并保證了曝光的均一性，提高了良品率。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例，對于本領域技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例1中一種曝光機的局部結構俯視圖；

圖2為圖1所示A-A處的截面圖；