[發(fā)明專利]一種PECVD設(shè)備加熱裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010047226.2
• 申請日: 2020-01-16
• 公開（公告）號: CN113122826A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅才旺;龔俊
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/52
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙) 43008
• 代理人: 徐好

本發(fā)明公開了一種PECVD設(shè)備加熱裝置，包括加熱盤以及多根設(shè)于加熱盤中間區(qū)域的支撐桿，所述加熱盤內(nèi)設(shè)有多圈加熱電阻絲，所述支撐桿位于所述加熱電阻絲的內(nèi)側(cè)，PECVD設(shè)備加熱裝置還包括輻射加熱部件，所述輻射加熱部件設(shè)于所述加熱盤的下方。本發(fā)明具有種結(jié)構(gòu)簡單、成本低、加熱均勻性好、有利于保證工藝效果等優(yōu)點。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及PECVD設(shè)備，尤其涉及一種PECVD設(shè)備加熱裝置。

背景技術(shù)

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)設(shè)備是指等離子體增強化學(xué)的氣相沉積設(shè)備。目前PECVD反應(yīng)腔室一般都是自動裝卸片，在裝卸片過程中，需要加熱盤中間區(qū)域的三根支撐桿將基片向上頂升，以讓出空間，使機械手能夠伸到基片下方進行傳送片。

由于加熱盤要為支撐桿讓出空間，因此中間區(qū)域布置加熱電阻絲不方便，并且電阻絲要從此處引出，導(dǎo)致中間區(qū)域有一部分無法布置加熱電阻絲。在工藝過程中，中間區(qū)域會因為沒有布置加熱電阻絲，其溫度會偏低，進而會影響工藝效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低、有利于保證工藝效果的PECVD設(shè)備即熱裝置。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種PECVD設(shè)備加熱裝置，包括加熱盤以及多根設(shè)于加熱盤中間區(qū)域的支撐桿，所述加熱盤內(nèi)設(shè)有多圈加熱電阻絲，所述支撐桿位于所述加熱電阻絲的內(nèi)側(cè)，PECVD設(shè)備加熱裝置還包括輻射加熱部件，所述輻射加熱部件設(shè)于所述加熱盤的下方。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進：

所述輻射加熱部件為面加熱部件。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進：

所述輻射加熱部件與所述加熱盤之間的間距可調(diào)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于：本發(fā)明公開的PECVD設(shè)備加熱裝置，加熱部分包括加熱電阻絲和輻射加熱部件，加熱電阻絲主要依靠熱傳導(dǎo)將熱量傳遞到加熱盤上表面的基片，輻射加熱部件主要通過熱輻射的方式將熱量傳遞給加熱盤中間區(qū)域，再由加熱盤中間區(qū)域的材料通過熱傳導(dǎo)將熱量傳遞到加熱盤上方的基片，輻射加熱器對加熱盤無法布置加熱電阻絲的中間區(qū)域進行溫度補償，或者說提供補充熱源，確保整個加熱盤上表面的溫度更加均勻，從而保證工藝效果。

附圖說明

圖1是本發(fā)明PECVD設(shè)備加熱裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明PECVD設(shè)備加熱裝置的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中各標號表示：1、加熱盤；2、支撐桿；3、輻射加熱部件；4、加熱電阻絲；5、基片。

具體實施方式

以下結(jié)合說明書附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。

圖1至圖2示出了本發(fā)明PECVD設(shè)備加熱裝置的一種實施例，本實施例的PECVD設(shè)備加熱裝置，包括加熱盤1以及多根設(shè)于加熱盤1中間區(qū)域的支撐桿2，加熱盤1內(nèi)設(shè)有多圈加熱電阻絲4，支撐桿2位于加熱電阻絲4的內(nèi)側(cè)，PECVD設(shè)備加熱裝置還包括輻射加熱部件3，輻射加熱部件3設(shè)于加熱盤1的下方。其中，輻射加熱部件3的形狀例如可以是圓形、環(huán)形或其他異性結(jié)構(gòu)，能夠提供補充熱源，保證加熱盤1表面溫區(qū)更加均勻即可。

PECVD設(shè)備加熱裝置，加熱部分包括加熱電阻絲和輻射加熱部件，加熱電阻絲主要依靠熱傳導(dǎo)將熱量傳遞到加熱盤上表面的基片，輻射加熱部件主要通過熱輻射的方式將熱量傳遞給加熱盤中間區(qū)域，再由加熱盤中間區(qū)域的材料通過熱傳導(dǎo)將熱量傳遞到加熱盤上方的基片，輻射加熱器對加熱盤無法布置加熱電阻絲的中間區(qū)域進行溫度補償，或者說提供補充熱源，確保整個加熱盤上表面的溫度更加均勻，從而保證工藝效果。