[發明專利]一種PET鍍膜方法、鍍膜PET

有效

• 申請號: 202010045208.0
• 申請日: 2020-01-16
• 公開（公告）號: CN111172500B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 陸張武;徐勇軍;李恭劍;王迎;徐征馳
• 申請（專利權）人: 浙江晶馳光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/20
• 分類號: C23C14/20;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/58
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 張海兵

一種PET鍍膜方法、鍍膜PET，屬于鍍膜技術領域。方法包括：步驟S01,在PET基板表面濺鍍Ti；步驟S02，在濺鍍Ti層的PET基板上進行鍍膜。本鍍膜PET基于上述方法制備。本發明在PET薄片基本表面鍍膜，采用特定的膜層設計，使之與PET表面精密粘結，并達到在400nm～700nm光譜波段平均反射率低于0.15％的吸光作用。

技術領域

本發明屬于鍍膜技術領域，具體涉及一種PET鍍膜方法、鍍膜PET。

背景技術

類似于低反射率的減反射膜鍍膜，一般用在玻璃等基板上，脆性和延展性相對不足，最重要的是無法達到吸光作用。現有鍍膜技術在PET表面鍍膜，PET折皺嚴重，膜層不均勻，光譜達不到要求。

發明專利申請CN201510835077.5公開了一種電子設備殼體的鍍膜制備工藝，并具體公開了工藝包括以下步驟：離子轟擊步驟：將一面經過UV轉印處理的透明PET片材置于真空鍍室內，對所述PET片材的表面進行離子轟擊；鍍膜步驟：利用真空鍍膜方式在所述PET片材的表面依次鍍上SiO2膜、TiO2膜、銦膜和SiO2膜。該工藝中PET折皺嚴重，膜層不均勻。

發明內容

本發明針對現有技術存在的問題，提出了一種耐折性好，具有反射率低于0.15％吸光作用的PET鍍膜方法、鍍膜PET。

本發明是通過以下技術方案得以實現的：

本發明一種PET鍍膜方法，包括:

步驟S01,在PET基板表面濺鍍Ti；

步驟S02，在濺鍍Ti層的PET基板上進行鍍膜。

將Ti層作為基板和膜層之間的粘結層，避免PET折皺，膜層不均勻。

作為優選，步驟S01具體包括：真空濺射鍍膜機對腔體抽真空；在PET基板表面濺鍍Ti。

作為優選，步驟S01濺鍍Ti層的厚度為20-200nm。

作為優選，所述步驟S02具體包括：在濺鍍Ti層的PET基板上依次濺鍍Al₂O₃、Ti、Al₂O₃、SiO₂。

作為優選，鍍膜溫度不超過200℃。

作為優選，鍍膜的膜厚不超過300nm。

作為優選，鍍膜后的PET基板具有400-700nm波段的吸光特性。

一種鍍膜PET，采用上述PET鍍膜方法制備；所述PET包括PET基板、膜層、Ti層；所述Ti層設于PET基板和膜層之間。

作為優選，所述膜層由Al₂O₃、Ti、Al₂O₃、SiO₂構成。

本發明具有以下有益效果：

本發明一種PET鍍膜方法、鍍膜PET，在PET薄片基本表面鍍膜，采用特定的膜層設計，使之與PET表面精密粘結，并達到在400nm～700nm光譜波段平均反射率低于0.15％的吸光作用。

附圖說明

圖1為本發明一種PET鍍膜方法的流程圖；

圖2為采用本發明一種PET鍍膜方法制備的PET在不同波段下的反射率曲線圖。

具體實施方式

以下是本發明的具體實施例并結合附圖，對本發明的技術方案作進一步的描述，但本發明并不限于這些實施例。

如圖1，本發明一種PET鍍膜方法，包括：