[發(fā)明專利]離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法和系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010044734.5
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN111175989A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘭碩;武春風(fēng);李強(qiáng);姜永亮;尤俊成;陳升;胡黎明;彭小康;馬銘;魏昊波;龐中昊;趙東舸
• 申請（專利權(quán)）人: 湖北航天技術(shù)研究院總體設(shè)計(jì)所
• 主分類號: G02B27/62
• 分類號: G02B27/62
• 代理公司: 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 孟歡

本發(fā)明公開了一種離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法和系統(tǒng)，裝調(diào)方法包括：對衍射元件與干涉儀進(jìn)行對準(zhǔn)，以使干涉儀內(nèi)部射出的測試波前經(jīng)對準(zhǔn)衍射區(qū)域反射后，與干涉儀內(nèi)部的參考波前發(fā)生干涉，并在干涉儀的對準(zhǔn)區(qū)域上形成零條紋；將離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡分別對準(zhǔn)主鏡定位區(qū)域與三鏡定位區(qū)域，以使干涉儀內(nèi)部射出的測試波前分別經(jīng)過主鏡定位區(qū)域與三鏡定位區(qū)域透射后，在主鏡的第一定位區(qū)域和三鏡的第二定位區(qū)域的邊緣分別形成多個(gè)定位線；調(diào)整主鏡和三鏡的姿態(tài)，以使測試波前經(jīng)由主鏡和三鏡反射后，與干涉儀內(nèi)部的參考波前發(fā)生干涉，并分別在主鏡區(qū)域和三鏡區(qū)域上形成零條紋。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)

離軸三反系統(tǒng)具有無遮攔的優(yōu)點(diǎn)，其可以在全視場獲得更高能量利用率，正逐漸成為光學(xué)發(fā)射與接收系統(tǒng)應(yīng)用中越來越多的光學(xué)結(jié)構(gòu)形式。離軸三反系統(tǒng)雖然具有諸多優(yōu)點(diǎn)，但由于系統(tǒng)具有非對稱性和較多的調(diào)整自由度，導(dǎo)致離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡的裝調(diào)十分困難，傳統(tǒng)的裝調(diào)方法已經(jīng)無法滿足要求。

現(xiàn)有的通過補(bǔ)償器穿軸的裝調(diào)方法可以確定離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡的失調(diào)量。但是該方法裝調(diào)過程復(fù)雜、設(shè)計(jì)加工成本高，嚴(yán)重影響離軸三反系統(tǒng)裝調(diào)的質(zhì)量和進(jìn)度。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法和系統(tǒng)，利用干涉儀和衍射光學(xué)元件進(jìn)行裝調(diào)，裝調(diào)過程簡單，能快速實(shí)現(xiàn)主鏡和三鏡的裝調(diào)。

為達(dá)到以上目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是：

一種離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法，其包括以下步驟：

提供干涉儀和衍射元件，所述干涉儀包括自上而下依次分布的主鏡區(qū)域、對準(zhǔn)區(qū)域和三鏡區(qū)域；所述衍射元件包括自上而下依次分布的主鏡定位區(qū)域、主鏡衍射區(qū)域、對準(zhǔn)衍射區(qū)域、三鏡衍射區(qū)域和三鏡定位區(qū)域；

對所述衍射元件與所述干涉儀進(jìn)行對準(zhǔn)，以使所述干涉儀內(nèi)部射出的測試波前經(jīng)所述對準(zhǔn)衍射區(qū)域反射后，與所述干涉儀內(nèi)部的參考波前發(fā)生干涉，并在所述對準(zhǔn)區(qū)域上形成零條紋；

將離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡分別對準(zhǔn)所述主鏡定位區(qū)域與所述三鏡定位區(qū)域，以使所述干涉儀內(nèi)部射出的測試波前分別經(jīng)過所述主鏡定位區(qū)域與所述三鏡定位區(qū)域透射后，在所述主鏡的第一定位區(qū)域和三鏡的第二定位區(qū)域的邊緣分別形成多個(gè)定位線；

調(diào)整所述主鏡和三鏡的姿態(tài)，以使所述測試波前經(jīng)由所述主鏡和三鏡反射后，與所述干涉儀內(nèi)部的參考波前發(fā)生干涉，并分別在所述主鏡區(qū)域和三鏡區(qū)域上形成零條紋。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述第一定位區(qū)域上的多個(gè)所述定位線沿所述第一定位區(qū)域的周向間隔分布；所述第二定位區(qū)域上的多個(gè)所述定位線沿所述第二定位區(qū)域的周向間隔分布。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述第一定位區(qū)域上的定位線有四個(gè)，四個(gè)所述定位線分別設(shè)于所述第一定位區(qū)域的四個(gè)邊緣的中間位置；所述第二定位區(qū)域上的定位線有四個(gè)，四個(gè)所述定位線分別設(shè)于所述第二定位區(qū)域的四個(gè)邊緣的中間位置。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，所述定位線為十字線。

本發(fā)明還提供一種離軸三反系統(tǒng)的主鏡和三鏡共基準(zhǔn)的裝調(diào)方法，其包括以下步驟：

提供干涉儀和衍射元件，所述干涉儀包括自下而上依次分布的主鏡區(qū)域、對準(zhǔn)區(qū)域和三鏡區(qū)域；所述衍射元件包括自下而上依次分布的主鏡定位區(qū)域、主鏡衍射區(qū)域、對準(zhǔn)衍射區(qū)域、三鏡衍射區(qū)域和三鏡定位區(qū)域；

對所述衍射元件與所述干涉儀進(jìn)行對準(zhǔn)，以使所述干涉儀內(nèi)部射出的測試波前經(jīng)所述對準(zhǔn)衍射區(qū)域反射后，與所述干涉儀內(nèi)部的參考波前發(fā)生干涉，并在所述對準(zhǔn)區(qū)域上形成零條紋；