[發明專利]離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法和系統

在審

• 申請號: 202010044734.5
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN111175989A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 蘭碩;武春風;李強;姜永亮;尤俊成;陳升;胡黎明;彭小康;馬銘;魏昊波;龐中昊;趙東舸
• 申請（專利權）人: 湖北航天技術研究院總體設計所
• 主分類號: G02B27/62
• 分類號: G02B27/62
• 代理公司: 武漢智權專利代理事務所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 孟歡

1.一種離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法，其特征在于，其包括以下步驟：

提供干涉儀(1)和衍射元件(2)，所述干涉儀(1)包括自上而下依次分布的主鏡區域(10)、對準區域(11)和三鏡區域(12)；所述衍射元件(2)包括自上而下依次分布的主鏡定位區域(20)、主鏡衍射區域(21)、對準衍射區域(22)、三鏡衍射區域(23)和三鏡定位區域(24)；

對所述衍射元件(2)與所述干涉儀(1)進行對準，以使所述干涉儀(1)內部射出的測試波前經所述對準衍射區域(22)反射后，與所述干涉儀(1)內部的參考波前發生干涉，并在所述對準區域(11)上形成零條紋；

將離軸三反系統的主鏡(3)和三鏡(4)分別對準所述主鏡定位區域(20)與所述三鏡定位區域(24)，以使所述干涉儀(1)內部射出的測試波前分別經過所述主鏡定位區域(20)與所述三鏡定位區域(24)透射后，在所述主鏡(3)的第一定位區域(30)和三鏡(4)的第二定位區域(40)的邊緣分別形成多個定位線(5)；

調整所述主鏡(3)和三鏡(4)的姿態，以使所述測試波前經由所述主鏡(3)和三鏡(4)反射后，與所述干涉儀(1)內部的參考波前發生干涉，并分別在所述主鏡區域(10)和三鏡區域(12)上形成零條紋。

2.如權利要求1所述的離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法，其特征在于，所述第一定位區域(30)上的多個所述定位線(5)沿所述第一定位區域(30)的周向間隔分布；所述第二定位區域(40)上的多個所述定位線(5)沿所述第二定位區域(40)的周向間隔分布。

3.如權利要求2所述的離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法，其特征在于，所述第一定位區域(30)上的定位線(5)有四個，四個所述定位線(5)分別設于所述第一定位區域(30)的四個邊緣的中間位置；所述第二定位區域(40)上的定位線(5)有四個，四個所述定位線(5)分別設于所述第二定位區域(40)的四個邊緣的中間位置。

4.如權利要求3所述的離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法，其特征在于，所述定位線(5)為十字線。

5.一種離軸三反系統的主鏡和三鏡共基準的裝調方法，其特征在于，其包括以下步驟：

提供干涉儀(1)和衍射元件(2)，所述干涉儀(1)包括自下而上依次分布的主鏡區域(10)、對準區域(11)和三鏡區域(12)；所述衍射元件(2)包括自下而上依次分布的主鏡定位區域(20)、主鏡衍射區域(21)、對準衍射區域(22)、三鏡衍射區域(23)和三鏡定位區域(24)；

對所述衍射元件(2)與所述干涉儀(1)進行對準，以使所述干涉儀(1)內部射出的測試波前經所述對準衍射區域(22)反射后，與所述干涉儀(1)內部的參考波前發生干涉，并在所述對準區域(11)上形成零條紋；

將離軸三反系統的主鏡(3)和三鏡(4)分別對準所述主鏡定位區域(20)與所述三鏡定位區域(24)，以使所述干涉儀(1)內部射出的測試波前分別經過所述主鏡定位區域(20)與所述三鏡定位區域(24)透射后，在所述主鏡(3)的第一定位區域(30)和三鏡(4)的第二定位區域(31)的邊緣分別形成多個定位線(5)；

調整所述主鏡(3)和三鏡(4)的姿態，以使所述測試波前經由所述主鏡(3)和三鏡(4)反射后，與所述干涉儀(1)內部的參考波前發生干涉，并分別在所述主鏡區域(10)和三鏡區域(12)上形成零條紋。