[發明專利]適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統

在審

• 申請號: 202010041059.0
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN113189023A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 馬永健;朱國亮;楊雷;杜立濤
• 申請（專利權）人: 深圳市先亞生物科技有限公司
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 郭偉剛

本發明公開了一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統，方法包括：按照設置的抽真空處理方式對測量氣室進行抽真空處理，使測量氣室內的壓力達到設置的進樣前的壓力閾值，所述抽真空處理方式包括對所述測量氣室直接抽真空處理和對所述測量氣室進行一次或多次清洗后再抽真空處理；按照設置的進樣次數進行一次進樣或者多次進樣，本發明通過抽真空進樣方式使測量氣室原有氣體去除到一個可控限值以下，使測量氣室殘留氣體的影響降低到一個可控范圍內，從而克服了呼氣樣本量少而無法完全置換測量氣室原有氣體的困難，并克服測量氣室需要較長時間清洗的缺點。

技術領域

本發明涉及呼氣樣本量少、所需分析的痕量成分濃度較低且對測量精度、測量時間要求較高的氣體分析方法，尤其涉及一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統。

背景技術

古代就有呼氣試驗診斷疾病，現代隨著檢測技術的不斷提高，通過檢測呼氣診斷疾病越來越受人們的重視，現在臨床上有多種呼氣診斷儀器，例如檢測紅細胞壽命的紅細胞壽命呼氣試驗儀、檢測幽門螺桿菌的HP測試儀等等。測量呼氣痕量成份常用的方法有氣相色譜法、電化學方法、光譜法等，其中氣相色譜法需要的樣品量少，測量精度高，但氣相色譜儀器操作、維護復雜，價格昂貴，不適合在臨床上推廣使用；電化學方法測量精度低，穩定性差，且使用壽命短，因此也不適合在臨床上廣泛使用；光譜法的測量儀器精度高，可靠性高，成本低，結構和裝配工藝簡單，因此非常適合氣體的分析，但是光譜法測量痕量氣體，特別是精度要求很高的氣體濃度測量需要大量的呼氣樣本去充滿測量氣室，而呼氣試驗的特點就是樣本量有限，因此呼氣樣本量少而無法完全充滿測量氣室是光譜法測量呼氣樣本的一大難題。

申請號為201310138453.6的發明專利公開了一種測量氣體濃度差的方法及非色散紅外光譜儀的進樣裝置，該發明采用“少量、多次、間歇”的進樣方式，克服了要將測量氣室內氣體完全置換成待測呼氣所需樣品量大的問題，達到了測量精度高、所需樣品量少的有益效果，但是該發明由于采用開放式的氣室且采用氣缸進氣的方式，測量時間較長，不能達到樣本的快速測量；使用激光光源在同一氣室內測量二個或多個呼氣成分時，為了避免吸收峰的疊加，需要對測量氣室進行減壓處理，但由于該發明的氣室是開放式的，不能對氣室內部氣壓進行降壓處理，因此限制了激光光源在該發明中的使用。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，針對現有技術的上述不能既適合于激光光源的測量裝置又適合于普通光源的測量裝置、所需時間較長的缺陷，提供一種既適合于激光光源又適合于普通光源的測量裝置，且測量時間能大大縮短的適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：構造一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法，所述方法包括以下步驟：

按照設置的抽真空處理方式對測量氣室進行抽真空處理，使測量氣室內的壓力達到設置的進樣前的壓力閾值，其中：所述進樣前的壓力閾值小于大氣壓力，所述抽真空處理方式包括對所述測量氣室直接抽真空處理和對所述測量氣室進行一次或多次清洗后再抽真空處理；

按照設置的進樣次數進行一次進樣或者多次進樣，其中：每一次進樣均是依靠抽真空形成的測量氣室的內外壓力差，使連接在測量氣室的進氣口端的待測樣本自動進入測試氣室。

優選地，所述的對所述測量氣室直接抽真空處理，包括：執行一次抽真空排氣步驟；所述的對所述測量氣室進行一次或多次清洗后再抽真空處理，包括：反復地執行一次所述抽真空排氣步驟后再執行一次清洗步驟，直至所述清洗步驟的執行次數達到設置的清洗次數；再執行一次所述抽真空排氣步驟；

其中，所述抽真空排氣步驟包括：啟動與所述測量氣室具有氣路連通的氣壓控制單元，關閉進氣電磁閥，打開出氣電磁閥，當所述測量氣室的壓力達到清洗前的壓力閾值時關閉所述出氣電磁閥，其中，所述清洗前的壓力閾值小于或等于大氣壓力；

其中，所述清洗步驟包括：打開所述進氣電磁閥，使連接在測量氣室的進氣口端的清洗氣自動進入所述測量氣室，當所述測量氣室的壓力達到清洗后的壓力閾值時，關閉所述進氣電磁閥。