[發明專利]適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統

在審

• 申請號: 202010041059.0
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN113189023A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 馬永健;朱國亮;楊雷;杜立濤
• 申請（專利權）人: 深圳市先亞生物科技有限公司
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 郭偉剛

1.一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

按照設置的抽真空處理方式對測量氣室進行抽真空處理，使測量氣室內的壓力達到設置的進樣前的壓力閾值，其中：所述進樣前的壓力閾值小于大氣壓力，所述抽真空處理方式包括對所述測量氣室直接抽真空處理和對所述測量氣室進行一次或多次清洗后再抽真空處理；

按照設置的進樣次數進行一次進樣或者多次進樣，其中：每一次進樣均是依靠抽真空形成的測量氣室的內外壓力差，使連接在測量氣室的進氣口端的待測樣本自動進入測試氣室。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述的對所述測量氣室直接抽真空處理，包括：執行一次抽真空排氣步驟；

所述的對所述測量氣室進行一次或多次清洗后再抽真空處理，包括：反復地執行一次所述抽真空排氣步驟后再執行一次清洗步驟，直至所述清洗步驟的執行次數達到設置的清洗次數；再執行一次所述抽真空排氣步驟；

其中，所述抽真空排氣步驟包括：啟動與所述測量氣室具有氣路連通的氣壓控制單元，關閉進氣電磁閥，打開出氣電磁閥，當所述測量氣室的壓力達到清洗前的壓力閾值時關閉所述出氣電磁閥，其中，所述清洗前的壓力閾值小于或等于大氣壓力；

其中，所述清洗步驟包括：打開所述進氣電磁閥，使連接在測量氣室的進氣口端的清洗氣自動進入所述測量氣室，當所述測量氣室的壓力達到清洗后的壓力閾值時，關閉所述進氣電磁閥。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

所述的一次進樣，包括：執行一次進氣步驟；

所述的多次進樣，包括：執行一次所述進氣步驟；反復地執行一次樣本排氣步驟后再執行一次所述進氣步驟，直至所述進氣步驟達到設置的進氣次數；

其中，所述進氣步驟包括：打開所述進氣電磁閥，使待測樣本自動進入所述測量氣室，當所述測量氣室的壓力達到進樣后的壓力閾值時，關閉所述進氣電磁閥；

其中，所述樣本排氣步驟包括：啟動與所述測量氣室具有氣路連通的氣壓控制單元，關閉進氣電磁閥，打開出氣電磁閥，當所述測量氣室的壓力達到進樣前的壓力閾值時關閉所述出氣電磁閥。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：在所述一次進樣或者多次進樣執行完成之后，執行如下的測量氣室降壓處理步驟：打開出氣電磁閥，氣壓控制單元運行，當壓力傳感器感應到測量氣室內的壓力達到測試壓力閾值時，主控單元控制出氣電磁閥關閉和氣壓控制單元停止運行。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，

進樣前的壓力閾值與清洗前的壓力閾值，可以是相同的或不同的；

進樣后的壓力閾值與清洗后的壓力閾值，可以是相同的或不同的；

不同次樣本排氣步驟結束時所對應的進樣前的壓力閾值，可以是相同或不同。

6.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述待測樣本包括呼氣樣本和環境本底氣樣本，所述清洗氣為經過處理后的空氣或待測樣本氣。

7.一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的系統，其特征在于，可實現如權利要求1-6任一項所述方法，所述系統包括：測量氣室、主控單元、含有進氣電磁閥的與測量氣室連通的進氣口、含有出氣電磁閥的與測量氣室連通的出氣口、與測量氣室具有氣路連通的氣壓控制單元、與測量氣室具有光路連通的光源、與測量氣室具有光路連通且與主控單元具有電性連接的光電探測器和與測量氣室具有氣路連通的壓力傳感器。

8.根據權利要求7所述的系統，其特征在于，所述主控單元用于設置抽真空處理方式、設置進樣次數、設置清洗前的壓力閾值、設置清洗后的壓力閾值、設置進樣前的壓力閾值、設置進樣后的壓力閾值、控制電磁閥的開、關和測量信號的分析處理。

9.根據權利要求7所述的系統，其特征在于，所述光源包括各種激光光源和普通非激光光源。

10.根據權利要求7所述的系統，其特征在于，所述氣壓控制單元包括氣泵或氣缸或其它能對測量氣室進行增壓或減壓的壓力控制處理設備或器件。