[發(fā)明專利]蒸鍍方法、蒸鍍裝置以及顯示裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010040141.1
• 申請(qǐng)日: 2020-01-15
• 公開（公告）號(hào): CN111244330A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊付強(qiáng);杜驍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

1.一種蒸鍍方法，其特征在于，包括

至少一像素蒸鍍步驟，在一基板表面蒸鍍出紅色像素和/或綠色像素和/或藍(lán)色像素。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，

所述像素蒸鍍步驟包括以下步驟：

掩膜板設(shè)置步驟，將一掩膜板傳入一蒸鍍裝置的機(jī)臺(tái)處；

基板設(shè)置步驟，將一基板傳入所述蒸鍍裝置的腔體內(nèi)部；

對(duì)位步驟，將所述掩膜板與所述基板對(duì)位處理；

蒸鍍步驟，蒸鍍所述基板；以及

掩膜板更換步驟，更換另一掩膜版，重復(fù)執(zhí)行2～5次所述掩膜板設(shè)置步驟、所述基板設(shè)置步驟、所述對(duì)位步驟及所述蒸鍍步驟。

3.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍方法，其特征在于，

在所述掩膜板更換步驟中，

更換的另一掩膜板的開口在所述基板表面的正投影與所述掩膜板在所述基板表面的正投影相離。

4.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，

所述像素蒸鍍步驟包括以下步驟：

掩膜板設(shè)置步驟，將第一掩膜板傳入一蒸鍍裝置的第一機(jī)臺(tái)處，將第二掩膜板傳入所述蒸鍍裝置的第二機(jī)臺(tái)處，將第三掩膜板傳入所述蒸鍍裝置的第三機(jī)臺(tái)處；

基板設(shè)置步驟，將一基板傳入所述蒸鍍裝置的一腔室內(nèi)部，所述腔室與所述第一機(jī)臺(tái)相對(duì)設(shè)置；

對(duì)位步驟，將所述掩膜板與所述基板對(duì)位處理；

蒸鍍步驟，蒸鍍所述基板；以及

基板傳遞步驟，將基板傳送至所述蒸鍍裝置的另一腔室內(nèi)，重復(fù)執(zhí)行2～5次所述對(duì)位步驟及所述蒸鍍步驟。

5.如權(quán)利要求4所述的蒸鍍方法，其特征在于，

在基板傳遞步驟中，

所述第二掩膜板的開口在所述基板表面的正投影與所述第一掩膜板在所述基板表面的正投影相離。

6.一種顯示裝置，包括如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的蒸鍍方法制成的基板。

7.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

機(jī)臺(tái)，用于放置基板；

邊框，用以安裝掩膜板；以及

至少一掩膜板，包括第一掩膜板和/或第二掩膜板和/或第三掩膜板；

其中，所述第一掩膜板安裝至所述框架，且與所述基板相對(duì)設(shè)置，用以將紅色像素蒸鍍至所述基板；

所述第二掩膜板安裝至所述框架，且與所述基板相對(duì)設(shè)置，用以將藍(lán)色像素蒸鍍至所述基板；

所述第三掩膜板安裝至所述框架，且與所述基板相對(duì)設(shè)置，用以將綠色像素蒸鍍至所述基板。

8.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

每一掩膜板包括若干開口；

蒸鍍同一像素的若干掩膜板的開口形狀相同；

蒸鍍同一像素的至少一掩膜板的若干開口排列成矩陣。

9.如權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

一掩膜板的開口在所述基板下表面的正投影與另一掩膜板在所述基板下表面的正投影相離。

10.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)；

所述掩膜板包括開口區(qū)，所述開口區(qū)設(shè)有排成矩陣的若干開口，所述開口區(qū)的邊界與所述矩陣的邊緣一致。