[發明專利]半成品的缺陷檢測設備

在審

• 申請號: 202010036892.6
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN113189107A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 郭溫良;柯冠宇;張艷鵬
• 申請（專利權）人: 纮華電子科技(上海)有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/01;G01N21/15
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 任蕓蕓;鄭特強

本發明公開一種半成品的缺陷檢測設備，包含機架以及安裝于機架的平面移載機構、光學檢測機構與遮塵件。所述平面移載機構的移動范圍定義有待測區及防塵區、并能用來定位多個相機模塊，以使其在待測區及防塵區移動。所述光學檢測機構位于待測區的上方、并用來對多個相機模塊依序地拍攝，以取得檢測圖像。所述遮塵件覆蓋防塵區，用以使通過光學檢測機構檢測的至少一個所述相機模塊的被拍攝區域能夠符合所述檢測圖像。據此，所述半成品的缺陷檢測設備能有效地提升所述相機模塊的檢測精準度。

技術領域

本發明涉及一種檢測設備，尤其涉及一種半成品的缺陷檢測設備。

背景技術

現有的缺陷檢測設備大都僅著重于如何在檢測待測物(device under test，DUT)的當下，實現精準的檢測效果。然而現有缺陷檢測設備并未考慮到所述待測物在檢測完成之后，是否可能被外部環境所污染，因而導致所述待測物的檢測結果與現行狀態不一致。

于是，本發明人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究并配合科學原理的運用，終于提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。

發明內容

本發明實施例在于提供一種半成品的缺陷檢測設備，其能有效地改善現有缺陷檢測設備所可能產生的缺陷。

本發明實施例公開一種半成品的缺陷檢測設備，其用來檢測多個相機模塊，并且每個相機模塊包含有一基板、安裝于基板的一傳感器及連接基板與傳感器的多條金屬線，半成品的缺陷檢測設備包括一機架、一平面移載機構、一光學檢測機構以及一遮塵件。機架內部形成有一檢測腔室；一平面移載機構安裝于機架，并且平面移載機構的一移動范圍定義有一待測區及一防塵區；其中，平面移載機構用來定位多個相機模塊，并使多個相機模塊在待測區及防塵區移動；一光學檢測機構安裝于機架并位于檢測腔室內，并且光學檢測機構位于待測區的上方；其中，光學檢測機構用來對多個相機模塊依序地拍攝，以取得一檢測圖像；一遮塵件安裝于機架，并且遮塵件覆蓋防塵區，用以使通過光學檢測機構檢測的至少一個相機模塊的被拍攝區域能夠符合檢測圖像。

優選地，待測區包含有位于光學檢測機構正下方的一檢測區域，并且檢測區域鄰近遮塵件；其中，平面移載機構能用以將在檢測區域通過光學檢測機構檢測的至少一個相機模塊，直接移動進入防塵區。

優選地，半成品的缺陷檢測設備進一步包含有安裝于機架的一風機過濾機組，并且風機過濾機組用來朝向平面移載機構吹風，而遮塵件能用來遮擋風機過濾機組所吹出來的風。

優選地，機架進一步包含有一高度對焦機構，并且光學檢測機構安裝于高度對焦機構；高度對焦機構能沿一高度方向移動光學檢測機構，以使光學檢測機構依序地對焦于多個相機模塊、并進行拍攝。

優選地，高度對焦機構包含有一高度傳感器及一微調機構。高度傳感器與光學檢測機構的相對位置保持固定，用以取得光學檢測機構及位于其正下方的相機模塊之間的一距離；一微調機構能依據距離而沿高度方向移動光學檢測機構，以使光學檢測機構對焦于位于其正下方的相機模塊的傳感器。

優選地，微調機構沿高度方向移動光學檢測機構的每單位移動距離介于1微米(μm)～30微米。

優選地，平面移載機構包含有一承載臺及一平面移動組件。承載臺用以供多個相機模塊設置，以使每個相機模塊的傳感器多條金屬線面向遠離承載臺的一側；一平面移動組件連接于承載臺，并且平面移動組件能驅使承載臺沿著相互垂直的一第一方向與一第二方向移動。

優選地，承載臺形成有多個穿孔，平面移載機構包含有連接于多個穿孔的一吸附組件，并且吸附組件用來通過多個穿孔來使多個相機模塊吸附定位于承載臺。

優選地，半成品的缺陷檢測設備是用來檢測尚未安裝有任何透鏡的任一個相機模塊，并且半成品的缺陷檢測設備不用來清除其所檢測的任一個相機模塊上的缺陷。

優選地，半成品的缺陷檢測設備包含有安裝于機架的一電控模塊，并且電控模塊電性耦接于平面移載機構以及光學檢測機構。