[發(fā)明專利]半成品的缺陷檢測設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010036892.6 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN113189107A | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭溫良;柯冠宇;張艷鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 纮華電子科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/01;G01N21/15 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 任蕓蕓;鄭特強 |
| 地址: | 201801 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半成品 缺陷 檢測 設(shè)備 | ||
1.一種半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述半成品的缺陷檢測設(shè)備用來檢測多個相機(jī)模塊,并且每個所述相機(jī)模塊包含有一基板、安裝于所述基板的一傳感器及連接所述基板與所述傳感器的多條金屬線,所述半成品的缺陷檢測設(shè)備包括:
一機(jī)架,其內(nèi)部形成有一檢測腔室;
一平面移載機(jī)構(gòu),安裝于所述機(jī)架,并且所述平面移載機(jī)構(gòu)的一移動范圍定義有一待測區(qū)及一防塵區(qū);其中,所述平面移載機(jī)構(gòu)用來定位多個所述相機(jī)模塊,并使多個所述相機(jī)模塊在所述待測區(qū)及所述防塵區(qū)移動;
一光學(xué)檢測機(jī)構(gòu),安裝于所述機(jī)架并位于所述檢測腔室內(nèi),并且所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)位于所述待測區(qū)的上方;其中,所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)用來對多個所述相機(jī)模塊依序地拍攝,以取得一檢測圖像;以及
一遮塵件,安裝于所述機(jī)架,并且所述遮塵件覆蓋所述防塵區(qū),用以使通過所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)檢測的至少一個所述相機(jī)模塊的被拍攝區(qū)域能夠符合所述檢測圖像。
2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述待測區(qū)包含有位于所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)正下方的一檢測區(qū)域,并且所述檢測區(qū)域鄰近所述遮塵件;其中,所述平面移載機(jī)構(gòu)能用以將在所述檢測區(qū)域通過所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)檢測的至少一個所述相機(jī)模塊,直接移動進(jìn)入所述防塵區(qū)。
3.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述半成品的缺陷檢測設(shè)備進(jìn)一步包含有安裝于所述機(jī)架的一風(fēng)機(jī)過濾機(jī)組,并且所述風(fēng)機(jī)過濾機(jī)組用來朝向所述平面移載機(jī)構(gòu)吹風(fēng),而所述遮塵件能用來遮擋所述風(fēng)機(jī)過濾機(jī)組所吹出來的風(fēng)。
4.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述機(jī)架進(jìn)一步包含有一高度對焦機(jī)構(gòu),并且所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)安裝于所述高度對焦機(jī)構(gòu);所述高度對焦機(jī)構(gòu)能沿一高度方向移動所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu),以使所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)依序地對焦于多個所述相機(jī)模塊、并進(jìn)行拍攝。
5.依據(jù)權(quán)利要求4所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述高度對焦機(jī)構(gòu)包含有:
一高度傳感器,與所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)的相對位置保持固定,用以取得所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)及位于其正下方的所述相機(jī)模塊之間的一距離;及
一微調(diào)機(jī)構(gòu),能依據(jù)所述距離而沿所述高度方向移動所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu),以使所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)對焦于位于其正下方的所述相機(jī)模塊的所述傳感器。
6.依據(jù)權(quán)利要求5所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述微調(diào)機(jī)構(gòu)沿所述高度方向移動所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)的每單位移動距離介于1微米~30微米。
7.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述平面移載機(jī)構(gòu)包含有:
一承載臺,用以供多個所述相機(jī)模塊設(shè)置,以使每個所述相機(jī)模塊的所述傳感器多條所述金屬線面向遠(yuǎn)離所述承載臺的一側(cè);及
一平面移動組件,連接于所述承載臺,并且所述平面移動組件能驅(qū)使所述承載臺沿著相互垂直的一第一方向與一第二方向移動。
8.依據(jù)權(quán)利要求7所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述承載臺形成有多個穿孔,所述平面移載機(jī)構(gòu)包含有連接于多個所述穿孔的一吸附組件,并且所述吸附組件用來通過多個所述穿孔來使多個所述相機(jī)模塊吸附定位于所述承載臺。
9.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述半成品的缺陷檢測設(shè)備是用來檢測尚未安裝有任何透鏡的任一個所述相機(jī)模塊,并且所述半成品的缺陷檢測設(shè)備不用來清除其所檢測的任一個所述相機(jī)模塊上的缺陷。
10.依據(jù)權(quán)利要求1所述的半成品的缺陷檢測設(shè)備,其特征在于,所述半成品的缺陷檢測設(shè)備包含有安裝于所述機(jī)架的一電控模塊,并且所述電控模塊電性耦接于所述平面移載機(jī)構(gòu)以及所述光學(xué)檢測機(jī)構(gòu)。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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