[發明專利]用于檢查缺陷的方法和裝置在審
| 申請號： | 202010036268.6 | 申請日： | 2020-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN111505008A | 公開（公告）日： | 2020-08-07 |
| 發明（設計）人： | 李知錫;金種佑 | 申請（專利權）人： | 東友精細化工有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京市中倫律師事務所 11410 | 代理人： | 楊黎峰;王麗 |
| 地址： | 韓國全*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 檢查 缺陷 方法 裝置 | ||
1.一種用于檢查缺陷的方法，包括：
獲取透射圖像和反射圖像，所述透射圖像包括第一亮圖像區域和與來自包括反射圖案層的檢查對象的反射圖案層對應的預定第一暗圖像區域，所述反射圖像包括與所述第一暗圖像區域對應的第二亮圖像區域和與所述第一亮圖像區域對應的第二暗圖像區域；
從所述透射圖像和所述反射圖像中檢測異常區域；以及
將與所述反射圖像和所述透射圖像兩者中的暗圖像區域對應的所述異常區域確定為非缺陷區域。
2.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，其中與所述反射圖像的所述非缺陷區域對應的所述暗圖像區域比所述第二暗圖像區域更暗。
3.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，其中與所述透射圖像的所述非缺陷區域對應的所述暗圖像區域比所述第一暗圖像區域更亮，并且比所述第一亮圖像區域更暗。
4.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，其中與所述透射圖像的所述非缺陷區域對應的所述暗圖像區域比與所述反射圖像的所述非缺陷區域對應的所述暗圖像更亮。
5.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，其中所述非缺陷區域對應于異物或劃痕。
6.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，還包括：將包括所述非缺陷區域但不包括有缺陷區域的所述檢查對象確定為非缺陷產品。
7.根據權利要求1所述的用于檢查缺陷的方法，其中所述透射圖像和所述反射圖像是同時獲取的。
8.一種用于檢查缺陷的裝置，包括：
透射光源，所述透射光源將第一光發射到包括反射圖案層的檢查對象的預定區域；
反射光源，所述反射光源將第二光發射到所述預定區域；
圖像獲取單元，所述圖像獲取單元收集所述第一光和所述第二光以分別獲取透射圖像和反射圖像；以及
缺陷檢測單元，所述缺陷檢測單元從所述透射圖像和所述反射圖像中的每一個中檢測透射異常區域和反射異常區域，并且將共同對應于暗圖像區域的所述透射異常區域和所述反射異常區域確定為非缺陷區域。
9.根據權利要求8所述的用于檢查缺陷的裝置，其中當所述透射異常區域對應于所述暗圖像區域并且所述反射異常區域對應于所述亮圖像區域，或者所述透射異常區域對應于所述亮圖像區域并且所述反射異常區域對應于所述暗圖像區域時，所述缺陷檢測單元將所述異常區域確定為有缺陷區域。
10.根據權利要求9所述的用于檢查缺陷的裝置，還包括：確定單元，所述確定單元將包括所述有缺陷區域的所述檢查對象確定為有缺陷產品，所述確定單元將包括所述非缺陷區域但不包括所述有缺陷區域的所述檢查對象確定為非缺陷產品。
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