[發明專利]一種用于石蠟組織切片的自發熒光背景的封閉方法在審
| 申請號: | 202010030114.6 | 申請日: | 2020-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN111024472A | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 雷艷 | 申請(專利權)人: | 長沙維世爾生物科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/30 | 分類號: | G01N1/30;G01N1/34;G01N1/28 |
| 代理公司: | 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214 | 代理人: | 胡昌國 |
| 地址: | 410205 湖南省長沙市高新開發*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 石蠟 組織 切片 自發 熒光 背景 封閉 方法 | ||
1.一種用于石蠟組織切片的自發熒光-熒光背景的封閉方法,其特征在于,所述步驟包括:
S1:在室溫條件下,將石蠟組織切片浸沒在硼氫化鈉溶液中,避光孵育;
S2:將所述步驟S1孵育后的石蠟組織切片用流水清洗后再用蒸餾水進行清洗;
S3:在室溫條件下,將所述步驟S2處理后的石蠟組織切片浸沒在蘇丹黑溶液中,避光孵育;
S4:將所述步驟S3孵育后的石蠟組織切片用流水清洗后再用蒸餾水進行清洗。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S1中硼氫化鈉溶液的濃度為0.01%-1%。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S1避光孵育的時長為30min。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S3避光孵育的時長為5-10min。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S2和所述步驟S4中流水清洗的時長為15min。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S3中蘇丹黑溶液濃度為0.01%-1%。
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