[發(fā)明專(zhuān)利]局部鍍膜制備精密藥液濾膜的方法及精密藥液濾膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010026289.X | 申請(qǐng)日: | 2020-01-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111172502A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔣開(kāi);朱學(xué)林 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 常州費(fèi)曼生物科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/30 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/30;C23C14/04;C23C14/18;C23C14/58;C23C16/40;C23C16/50;C23C16/04;A61M5/165 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 局部 鍍膜 制備 精密 藥液 濾膜 方法 | ||
1.一種局部鍍膜制備精密藥液濾膜的方法,其特征在于,方法的步驟中包括:
提供帶有濾孔(1)的藥液過(guò)濾濾膜;其中,相鄰濾孔(1)之間形成間隔壁(2);
在藥液過(guò)濾濾膜的至少一側(cè)上采用非保形沉積鍍膜方法局部鍍膜以使間隔壁(2)的相應(yīng)側(cè)沉積出鍍膜體(3),以得到經(jīng)過(guò)縮孔的精密藥液濾膜;其中,所述鍍膜體(3)在沉積過(guò)程中至少橫向生成使靠近的濾孔(1)的相應(yīng)側(cè)孔徑縮小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
所述非保形沉積鍍膜方法為真空鍍膜方式。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,
所述非保形沉積鍍膜方法為熱蒸發(fā)鍍膜或電子束蒸發(fā)鍍膜或?yàn)R射鍍膜或等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
所述藥液過(guò)濾濾膜的濾孔的孔徑為深亞微米級(jí)或納米級(jí)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
所述藥液過(guò)濾濾膜由無(wú)機(jī)材料制成;和/或所述鍍膜體(3)由無(wú)機(jī)材料或金屬制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,
所述無(wú)機(jī)材料為氧化硅或氧化鋁或氧化鈦或氧化鉿。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
當(dāng)所述鍍膜體(3)由金屬制成時(shí),方法步驟中含有:
將經(jīng)過(guò)縮孔的精密藥液濾膜進(jìn)行氧化處理,使鍍膜體氧化成金屬氧化物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
所述精密藥液濾膜的濾孔(1)的相應(yīng)側(cè)孔徑縮小至2納米~240納米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
在局部鍍膜前,將所述藥液過(guò)濾濾膜清洗干凈,并進(jìn)行干燥。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,
在局部鍍膜中,當(dāng)濾孔的相應(yīng)側(cè)孔徑縮小到所需尺寸時(shí),停止局部鍍膜。
11.一種精密藥液濾膜,其特征在于,它包括:
膜本體(4),所述膜本體(4)具有濾孔(1),相鄰濾孔(1)之間形成有間隔壁(2),間隔壁(2)在濾孔軸向上的至少一側(cè)設(shè)有至少橫向生成使靠近的濾孔(1)的相應(yīng)側(cè)孔徑縮小的鍍膜體(3)。
12.如權(quán)利要求11所述的精密藥液濾膜,其特征在于,它由如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法制備得到。
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