[發(fā)明專利]高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備與控制方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010026121.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111134776A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁進(jìn)強(qiáng);趙可娜;毛佳煒;劉文海;周佳;蔣祖平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市奧昇醫(yī)療科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | A61B17/225 | 分類號(hào): | A61B17/225;A61B34/20;A61B90/11;A61B90/00 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 汪潔麗 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市坪山區(qū)坑梓街道秀*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 強(qiáng)度 聚焦 超聲 設(shè)備 控制 方法 | ||
1.一種高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,用于對(duì)待處理區(qū)域進(jìn)行高強(qiáng)度聚焦超聲處理,其特征在于,包括:
成像裝置(100),用于獲取待處理區(qū)域的圖像;
光學(xué)追蹤裝置(200),包括攝像頭(210)和多個(gè)光學(xué)標(biāo)記物(220),所述多個(gè)光學(xué)標(biāo)記物(220)設(shè)置于所述待處理區(qū)域或所述成像裝置(100),用于實(shí)現(xiàn)對(duì)所述待處理區(qū)域中任意點(diǎn)的定位;
工作組件(300),用于在選定所述待處理區(qū)域中的目標(biāo)坐標(biāo)點(diǎn)后,釋放高強(qiáng)度聚焦超聲脈沖,對(duì)所述目標(biāo)坐標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行照射;以及
定位裝置(400),一端固定設(shè)置,另一端設(shè)置為可夾持所述工作組件(300)自由伸展移動(dòng),用于夾持所述工作組件(300)移動(dòng)至與所述目標(biāo)坐標(biāo)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的工作位置,使得所述工作組件(300)能夠?qū)λ瞿繕?biāo)坐標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行照射;
所述多個(gè)光學(xué)標(biāo)記物(220),還設(shè)置于所述工作組件(300)或所述定位裝置(400),用于實(shí)現(xiàn)對(duì)所述工作組件(300)的定位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述成像裝置(100)為超聲成像探頭。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述定位裝置(400)為機(jī)械臂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述工作組件(300)釋放高強(qiáng)度聚焦超聲脈沖的能量聚焦點(diǎn),位于所述成像裝置(100)的圖像掃描區(qū)域內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述工作組件(300)包括依次層疊設(shè)置的第一部件(310)、薄膜(320)、第二部件(330)、高強(qiáng)度聚焦超聲探頭(340)和工作組件主體(350);
所述第一部件(310)為中空的圓環(huán)狀結(jié)構(gòu),所述第一部件(310)的外圓周上設(shè)置有多個(gè)第一卡扣(311);
所述第二部件(330)為中空的圓環(huán)狀結(jié)構(gòu);
所述薄膜(320)設(shè)置于所述第一部件(310)和所述第二部件(330)之間;
所述高強(qiáng)度聚焦超聲探頭(340)包括第一端面(341)和第二端面(342),所述第二端面(342)與所述工作組件主體(350)固定連接/活動(dòng)連接;
所述工作組件主體(350)的外壁設(shè)置有第二卡扣(360),所述第二卡扣(360)設(shè)置為能夠與所述第一卡扣(311)卡合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述工作組件主體(350)包括:
底盤(351),設(shè)置有多個(gè)連接孔(351a);
驅(qū)動(dòng)裝置(352),固定連接于所述底盤(351)的表面;
多個(gè)連接桿(353),一端貫穿所述連接孔(351a),與所述驅(qū)動(dòng)裝置(352)電連接,另一端與所述高強(qiáng)度聚焦超聲探頭(340)的第二端面(342)固定連接/活動(dòng)連接;以及
殼體(354),包覆所述底盤(351)、所述驅(qū)動(dòng)裝置(352)和所述多個(gè)連接桿(353);所述殼體(354)的外表面設(shè)置有所述多個(gè)第二卡扣(360)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)裝置(352)為驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,每一個(gè)連接桿(353)包括互相轉(zhuǎn)動(dòng)連接的第一連接桿(353a)和第二連接桿(353b),所述第一連接桿(353a)可相對(duì)所述第二連接桿(353b)轉(zhuǎn)動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)裝置(352)包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)子裝置,所述驅(qū)動(dòng)子裝置的數(shù)量小于或等于所述連接桿(353)的數(shù)量,每一個(gè)驅(qū)動(dòng)子裝置與一個(gè)連接桿(353)電連接。
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