[發明專利]掩膜版及制備方法

在審

• 申請號: 202010025609.X
• 申請日: 2020-01-10
• 公開（公告）號: CN111235525A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 王夢凡;陳濤
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 方曉燕

1.一種掩膜版，其特征在于，包括：

框架(10)；

多個支撐條(12)，沿第二方向延伸設置于所述框架(10)，所述多個支撐條(12)平行間隔設置；所述支撐條(12)具有第一安裝部(121)，以及

多個掩膜條(13)，沿所述第一方向延伸設置于所述框架(10)，所述多個掩膜條(13)平行間隔設置，所述第一方向與所述第二方向垂直；所述掩膜條(13)具有第一固定部(131)，所述第一安裝部(121)與所述第一固定部(131)的形狀匹配。

2.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一安裝部(121)具有相對于所述支撐條(12)平面的凹陷區域。

3.根據權利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述凹陷區域的深度等于所述掩膜條(13)在所述支撐條(12)與所述掩膜條(13)層疊方向的厚度的一半。

4.根據權利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一安裝部(121)具有增加與所述第一固定部(131)接觸面積的第一邊緣。

5.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜條(13)包括：多個掩膜部(132)，至少一個所述掩膜部(132)完全嵌入所述支撐條(12)。

6.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，

完全嵌入所述支撐條(12)的所述掩膜部(132)具有與所述支撐條(12)和所述掩膜條(13)層疊方向呈第一角度的邊緣，所述支撐條(12)具有與所述掩膜部(132)形狀匹配的邊緣；或者

完全嵌入所述支撐條(12)的所述掩膜部(132)具有臺階狀的邊緣；所述支撐條(12)具有與所述掩膜部(132)形狀匹配的邊緣。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版(100)還包括：

第一焊接部(14)，形成于所述掩膜條(13)與所述支撐條(12)的重疊區域。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版(100)還包括：

多個遮擋條(11)，沿所述第一方向延伸設置于所述框架(10)，所述多個遮擋條(11)平行間隔設置。

9.根據權利要求8所述的掩膜版，其特征在于，所述遮擋條(11)、所述支撐條(12)和所述掩膜條(13)依次層疊設置。

10.一種掩膜版的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S10，提供框架(10)；

S20，提供多個支撐條(12)，對所述支撐條(12)進行半刻蝕或圖案化刻蝕，以形成第一安裝部(121)，并將所述多個支撐條(12)沿第二方向延伸設置于所述框架(10)，所述多個支撐條(12)平行間隔設置；

S30，提供多個掩膜條(13)，并將所述多個掩膜條(13)沿第一方向延伸設置于所述框架(10)，所述第一方向與所述第二方向垂直；所述掩膜條(13)具有第一固定部(131)，所述多個掩膜條(13)設置于所述框架(10)時，所述第一安裝部(121)與所述第一固定部(131)的形狀匹配，以固定所述掩膜條(13)。