[發(fā)明專利]芯片封裝方法和芯片封裝結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010024302.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111192835B | 公開(公告)日: | 2021-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘磊;李利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 甬矽電子(寧波)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/60 | 分類號(hào): | H01L21/60;H01L23/488;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 劉亞飛 |
| 地址: | 315400 浙江省寧*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 封裝 方法 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種芯片封裝方法和芯片封裝結(jié)構(gòu),涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明實(shí)施例提供的芯片封裝方法和芯片封裝結(jié)構(gòu),通過(guò)在基板上設(shè)置凸臺(tái)和金屬柱,利用膠體將芯片的金屬墊貼裝于基板的凸臺(tái),一方面利用凸臺(tái)與基板的高度差,在芯片底部形成空腔結(jié)構(gòu),避免了芯片隱裂的問(wèn)題,同時(shí)又能使金屬柱與芯片線路連通,另一方面通過(guò)膠體與金屬墊的粘合性,對(duì)空腔結(jié)構(gòu)進(jìn)行密封,提高了空腔結(jié)構(gòu)的密閉性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種芯片封裝方法和芯片封裝結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展,聲表面波濾波器(saw filter)廣泛應(yīng)用于接收機(jī)前端以及雙工器和接收濾波器。通常saw filter芯片采用鉭酸鋰(LiTaO3)或鈮酸鋰(LiNbO3)材質(zhì),利用壓電材料的壓電特性,利用輸入與輸出換能器(Transducer)將電波的輸入信號(hào)轉(zhuǎn)換成機(jī)械能,經(jīng)過(guò)處理后,再把機(jī)械能轉(zhuǎn)換成電的信號(hào),以達(dá)到過(guò)濾不必要的信號(hào)及雜訊,提升收訊品質(zhì)。
為保證saw filter芯片的功能區(qū)域不能接觸任何物質(zhì),傳統(tǒng)技術(shù)通常采用倒裝工藝連接,在saw filter芯片背面上壓覆一層薄膜,利用薄膜來(lái)形成芯片底部空腔結(jié)構(gòu),由于saw filter芯片在壓覆膜時(shí),芯片背面受到壓力,容易造成芯片隱裂,同時(shí)在塑封時(shí),壓覆膜受到塑封注塑壓力容易造成壓覆膜裂紋,導(dǎo)致產(chǎn)品的氣密性不好,影響產(chǎn)品性能。
發(fā)明內(nèi)容
基于上述研究,本發(fā)明提供了一種芯片封裝方法和芯片封裝結(jié)構(gòu),以改善上述問(wèn)題。
本發(fā)明的實(shí)施例可以這樣實(shí)現(xiàn):
第一方面,實(shí)施例提供一種芯片封裝方法,用于對(duì)具有金屬墊的芯片進(jìn)行封裝,所述方法包括:
提供具有凸臺(tái)與金屬柱的基板;
通過(guò)膠體將所述芯片的金屬墊貼裝于所述基板的凸臺(tái),對(duì)設(shè)置于所述芯片的金屬墊與所述凸臺(tái)之間的膠體回流固化,使所述金屬柱與所述芯片線路連通,并在所述芯片與所述基板之間形成一空腔密閉結(jié)構(gòu)。
在可選的實(shí)施方式中,通過(guò)膠體將所述芯片的金屬墊貼裝于所述基板的凸臺(tái)的步驟包括:
在所述基板的凸臺(tái)的表面劃膠,以通過(guò)膠體將所述芯片的金屬墊貼裝于所述凸臺(tái)。
在可選的實(shí)施方式中,所述方法還包括制作所述基板的步驟,所述步驟包括:
在初始基板上設(shè)置第一金屬層,在所述第一金屬層上設(shè)置保護(hù)層;
在所述保護(hù)層上貼裝第一圖形保護(hù)層,以對(duì)設(shè)定區(qū)域進(jìn)行保護(hù);
按照預(yù)設(shè)深度對(duì)所述保護(hù)層進(jìn)行蝕刻,以形成基板凸臺(tái);
對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行蝕刻,以形成金屬柱。
在可選的實(shí)施方式中,所述對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行蝕刻,以形成所述金屬柱的步驟包括:
貼裝第二圖形保護(hù)層,對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行蝕刻,得到金屬柱生長(zhǎng)點(diǎn);
在所述金屬柱生長(zhǎng)點(diǎn)上生長(zhǎng)金屬柱,并在生長(zhǎng)的金屬柱上鍍第二金屬層,通過(guò)點(diǎn)錫或刷錫,在鍍層后的金屬柱上形成焊點(diǎn),得到所述金屬柱。
在可選的實(shí)施方式中,所述第一金屬層為銅層,所述第二金屬層為鎳金鍍層或鎳鈀金鍍層,所述保護(hù)層為聚丙烯板材。
在可選的實(shí)施方式中,所述方法還包括在所述芯片生成所述金屬墊的步驟,所述步驟包括:
在所述芯片表面上鍍第三金屬層,以生成所述金屬墊。
在可選的實(shí)施方式中,所述第三金屬層為銅層、鎳金鍍層或鎳鈀金鍍層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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