[發(fā)明專利]殼體組件的制備方法、殼體組件及電子設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010022767.X | 申請日: | 2020-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN113122897A | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳穎 | 申請(專利權(quán))人: | RealMe重慶移動通信有限公司 |
| 主分類號: | C25D11/08 | 分類號: | C25D11/08;C25D11/12;C23C14/08;C23C14/10;H05K5/04 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 胡海國 |
| 地址: | 401120 重慶*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 殼體 組件 制備 方法 電子設(shè)備 | ||
本申請公開一種殼體組件的制備方法、殼體組件及電子設(shè)備。其中,殼體組件的制備方法包括以下步驟:提供一鋁合金殼體基材;其中,所述鋁合金殼體基材具有背對設(shè)置的內(nèi)表面和外表面;所述內(nèi)表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備內(nèi)部空間的表面,所述外表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備外部空間的表面;對所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第一處理,以在所述鋁合金殼體基材的外表面形成基層;對經(jīng)過所述第一處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第二處理,以形成嵌入到所述基層的第一紋理層;對經(jīng)過所述第二處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第三處理,以形成嵌入到所述基層的第二紋理層。本申請的技術(shù)方案能夠豐富鋁合金殼體的外觀效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及電子產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種殼體組件的制備方法、由該殼體組件的制備方法制備得到的殼體組件、殼體組件及應(yīng)用該殼體組件的電子設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步,鋁合金殼體已廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備。但是,在相關(guān)技術(shù)中,鋁合金殼體基材的表面處理工藝以噴砂陽極氧化為主,得到的普遍為單一的霧面或亮面效果,外觀效果相對有限,造成鋁合金殼體的外觀效果同質(zhì)化嚴(yán)重。
以上內(nèi)容僅用于輔助理解本申請的技術(shù)方案,并不代表承認(rèn)上述內(nèi)容為現(xiàn)有技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本申請的主要目的是提供一種殼體組件的制備方法、由該殼體組件的制備方法制備得到的殼體組件、殼體組件及應(yīng)用該殼體組件的電子設(shè)備,旨在豐富鋁合金殼體的外觀效果。
本申請的一實施例提出一種殼體組件的制備方法,包括以下步驟:
提供一鋁合金殼體基材;其中,所述鋁合金殼體基材具有背對設(shè)置的內(nèi)表面和外表面;所述內(nèi)表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備內(nèi)部空間的表面,所述外表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備外部空間的表面;
對所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第一處理,以在所述鋁合金殼體基材的外表面形成基層;
對經(jīng)過所述第一處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第二處理,以形成嵌入到所述基層的第一紋理層;
對經(jīng)過所述第二處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第三處理,以形成嵌入到所述基層的第二紋理層。
本申請的一實施例還提出一種殼體組件,所述殼體組件由殼體組件的制備方法制備得到,所述殼體組件的制備方法包括以下步驟:
提供一鋁合金殼體基材;其中,所述鋁合金殼體基材具有背對設(shè)置的內(nèi)表面和外表面;所述內(nèi)表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備內(nèi)部空間的表面,所述外表面為所述鋁合金殼體基材的面向電子設(shè)備外部空間的表面;
對所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第一處理,以在所述鋁合金殼體基材的外表面形成基層;
對經(jīng)過所述第一處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第二處理,以形成嵌入到所述基層的第一紋理層;
對經(jīng)過所述第二處理的所述鋁合金殼體基材進(jìn)行第三處理,以形成嵌入到所述基層的第二紋理層。
本申請的一實施例還提出一種殼體組件,所述殼體組件包括:
鋁合金殼體基材,所述鋁合金殼體基材具有背對設(shè)置的內(nèi)表面和外表面;
基層,所述基層設(shè)于所述鋁合金殼體基材的外表面,所述基層的表面形成有貫通所述基層的第一嵌設(shè)位和第二嵌設(shè)位;
第一紋理層,所述第一紋理層嵌設(shè)于所述第一嵌設(shè)位內(nèi);
第二紋理層,所述第二紋理層嵌設(shè)于所述第二嵌設(shè)位內(nèi)。
本申請的一實施例還提出一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括:
殼體組件;
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