[發(fā)明專利]投射曝光設備的光學系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010016457.7
• 申請日: 2020-01-07
• 公開（公告）號: CN111427239A
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發(fā)明（設計）人: M.帕特拉
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

本發(fā)明涉及一種EUV中操作的微光刻投射曝光設備的光學系統(tǒng)。光學系統(tǒng)包括：至少一個影響偏振的布置，其至少具有一個第一雙反射表面單元和一個第二雙反射表面單元，它們各具有第一反射表面和第二反射表面。在相同的雙反射表面單元內，第一反射表面和第二反射表面以距離d1且以0°±10°的角度直接相鄰地布置。第一雙反射表面單元的第一反射表面和第二雙反射表面單元的第二反射表面以距離d2且以0°±10°的角度直接相鄰地布置。在第一反射表面上入射的光與第一反射表面形成的角度為43°±10°，特別是43°±5°。在操作光學系統(tǒng)期間，將在第一雙反射表面單元的第一反射表面上入射的光反射朝向第二雙反射表面單元的第二反射表面。對于距離d1和d2，以下是成立的：d2＞5*d1。

技術領域

本發(fā)明涉及一種包括影響偏振的布置的光學系統(tǒng)，特別是用于EUV微光刻的投射曝光設備。

背景技術

例如從DE 102012206153 A1中已知一光學系統(tǒng)，該光學系統(tǒng)包含用在EUV微光刻的投射曝光設備中的影響偏振的布置。特別是，從DE102012206153 A1中已知的是，影響偏振的布置用于通過以布儒斯特角的兩次反射使入射的非偏振光偏振。在這種情況下，光通過布置彼此平行布置的兩個單獨反射鏡而線偏振，其使入射的非偏振光在各個情況下連續(xù)偏轉90°。在此，入射光的原始光束方向會維持不變，因為各發(fā)生90°的兩次相反方向的光束偏轉。根據(jù)DE 102012206153 A1，多個這樣的反射鏡對靠近彼此布置。此外，反射鏡對可以實施為在各個情況下都可以單獨旋轉，以便能夠設定反射光的偏振方向。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是發(fā)展光學系統(tǒng)，該光學系統(tǒng)包括在引言中提及類型的影響偏振的布置，使得優(yōu)化以下性能：

1.)旨在減小或最小化影響偏振的布置的所不期望的遮蔽；和/或

2.)旨在改進機械和熱穩(wěn)定性；特別是，旨在使影響偏振的布置的光學單元的更簡易的機械安裝成為可能；和/或

3.)除偏振化操作外，其目的還在于，與偏振化操作相比，使非偏振化操作在光學系統(tǒng)中的光分布不變且具有更高的“有效傳輸率”二者成為可能；“有效傳輸率”在此被理解為表示影響偏振的布置的布置區(qū)域的后面(也就是說下游)的強度相對于影響偏振的布置的布置區(qū)域的前面(也就是說上游)的強度的商。

和/或

4.)旨在簡化影響偏振的布置的可生產(chǎn)性，和/或旨在可以用較低的費用進行制造；和/或

5.)旨在最小化由于影響偏振的布置而引起的光束偏移；和/或

6.)在與由于影響偏振的布置而引起的光束偏移的最小化相結合的情況下，旨在減小或最小化由于影響偏振的布置而引起的不期望的遮蔽；和/或

7.)影響偏振的布置旨在適合于設定入射平行或發(fā)散光的偏振，而不會由于影響偏振的布置而引起光束偏移；和/或

8.)影響偏振的布置旨在于可在現(xiàn)有的投射曝光設備中進行改裝，而無需對現(xiàn)有的投射曝光設備進行根本性的改變。

根據(jù)本發(fā)明，該目的是通過具有權利要求1中指定的特征和/或具有從屬權利要求中指定的特征的光學系統(tǒng)來實現(xiàn)的。

根據(jù)本發(fā)明，已經(jīng)認識到，上述影響偏振的布置的反射表面之間的距離的有目標的選擇可以用于減小遮蔽區(qū)域。