[發明專利]投射曝光設備的光學系統

在審

• 申請號: 202010016457.7
• 申請日: 2020-01-07
• 公開（公告）號: CN111427239A
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: M.帕特拉
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種EUV中操作的微光刻投射曝光設備的光學系統，包括：

至少一個影響偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)，至少具有一個第一雙反射表面單元和一個第二雙反射表面單元(128、228、328、428、528、728)；

其中所述至少兩個雙反射表面單元各具有第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)；

其中在相同的雙反射表面單元內，在各個情況下所述第一反射表面和所述第二反射表面相對于彼此以距離d1且以0°±10°的角度直接相鄰地布置；

其中，所述第一雙反射表面單元的第一反射表面和所述第二雙反射表面單元的第二反射表面相對于彼此以距離d2且以0°±10°的角度直接相鄰地布置；

其中在操作所述光學系統期間，在所述第一反射表面上入射的光(125、225、325、425、525)與所述第一反射表面形成的角度為43°±10°；以及

其中在操作所述光學系統期間，將在所述第一雙反射表面單元的第一反射表面上入射的光朝向所述第二雙反射表面單元的第二反射表面反射；以及

其中，以下是成立的：d2＞5*d1。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其中，所述影響偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)具有至少十個雙反射表面單元(128、228、328、428、528、728)。

3.根據權利要求2所述的光學系統，其中，所述雙反射表面單元(128、228、328、428、528、728)中的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)交替布置且以交替距離d1和d2進行布置。

4.根據前述權利要求中任一項所述的光學系統，其中，所述影響偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)：

繞旋轉軸線是可旋轉的，所述旋轉軸線平行于在操作所述光學系統期間在所述第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)上入射的光(125、225、325、425、525)的光傳播方向(z)延伸，和/或

被配置為使得能夠將所述影響偏振的布置從在操作所述光學系統期間在所述第一反射表面上入射的光的光束路徑中移除。

5.根據前述權利要求中任一項所述的光學系統，其中至少一個所述雙反射表面單元(128、228、328、428、528、728)中的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)布置在單片元件(128、228、328、428、528a、528b、528c、728)的兩個側表面。

6.根據權利要求5所述的光學系統，其中，所述單片元件(128、228、328、428、528a、528b、528c、728)的至少一個非反射式側表面(457a、457b、557c)平行于在操作所述光學系統期間在所述第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)上入射的光(125、225、325、425、525)的光傳播方向(z)布置。

7.根據權利要求1、2、3或4中任一項所述的光學系統，其中，雙反射表面單元(128、228、328、428、528、728)的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)布置在不同元件(528d)處。