[發明專利]用于執行輻射兩步法測量的方法以及測量裝置有效
| 申請號: | 202010013649.2 | 申請日: | 2020-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN111585668B | 公開(公告)日: | 2022-11-18 |
| 發明(設計)人: | 文森特·阿巴迪;莫里茨·哈特內克;胡安-安琪兒·安東 | 申請(專利權)人: | 羅德施瓦茲兩合股份有限公司 |
| 主分類號: | H04B17/12 | 分類號: | H04B17/12;H04B7/0413 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;胡彬 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 執行 輻射 步法 測量 方法 以及 裝置 | ||
1.一種用于對具有預定數量的天線(15)的被測設備(12)執行輻射兩步法測量的方法,包括以下步驟:
a)將所述被測設備(12)放置在定位器(20)上,
b)使用至少一個鏈路天線(22)建立與所述被測設備(12)的通信,
c)使用多個測量天線(24)測量所述被測設備(12)的天線方向圖,其中,所述多個測量天線(24)包括比所述被測設備(12)的天線(15)的數量更大數量的測量天線(24)。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述被測設備(12)被放置在電波暗室(18)內的定位器(20)上。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述多個測量天線(24)的測量天線(24)的數量至少是,特別地恰好是所述被測設備(12)的天線(15)的數量的兩倍。
4.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其特征在于,所述多個測量天線(24)中的至少一個測量天線,特別是全部所述多個測量天線(24)是雙極化天線,其中一個雙極化天線計入測量天線(24)的數量是二。
5.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其特征在于以下步驟:
a)使用所述多個測量天線(24)的測量結果來生成信道矩陣,
b)對信道矩陣求逆,產生信道矩陣求逆的多于一個解,以及
c)選擇所述解中的一個解。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所選擇的解是具有最小歐幾里得范數的解。
7.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其特征在于,所述被測設備(12)是能夠在450MHz和6000MHz的頻率范圍內進行通信的設備。
8.一種用于對被測設備(12)執行輻射兩步法測量的測量裝置,包括具有預定數量的天線(15)的被測設備(12)和測量系統(14),其中,所述測量系統(14)包括:
定位器(20),所述被測設備(12)附接到所述定位器(20),
至少一個鏈路天線(22),其用于與所述被測設備(12)建立通信,以及
多個測量天線(24),其中所述多個測量天線(24)包括比所述被測設備(12)的天線(15)的數量更大數量的測量天線(24)。
9.根據權利要求8所述的測量裝置,其特征在于,所述多個測量天線(24)中的至少一個測量天線,特別是全部所述多個測量天線(24)是雙極化天線,其中,一個雙極化天線計入測量天線(24)的數量是二。
10.根據權利要求8或9所述的測量裝置,其特征在于,所述測量系統(14)包括電波暗室(18),具有所述被測設備(12)的所述定位器(20)、所述至少一個鏈接天線(22)以及所述多個測量天線(24)中的至少一個測量天線被布置在所述電波暗室(18)中。
11.根據權利要求8到10中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述測量系統(14)包括控制單元(25)和/或第二階段設備(19),其中所述控制單元(25)和/或所述第二階段設備(19)被配置成控制所述測量系統(14)執行根據權利要求1到7中任一項所述的方法。
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