[發(fā)明專利]一種級(jí)進(jìn)模拱料監(jiān)測(cè)方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010012910.7
• 申請(qǐng)日: 2020-01-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111242907B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王翔;孟凡武;祁杰;黃新宇;岳穎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州恒志匯智能科技有限公司
• 主分類號(hào): G06T7/00
• 分類號(hào): G06T7/00;G06T7/60;G01B11/02
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 曹瑞敏

1.一種級(jí)進(jìn)模拱料監(jiān)測(cè)方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取圖像采集設(shè)備所采集的料帶上所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域的圖像；

判斷所述圖像中上模具高度是否在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)；

若所述圖像中上模具高度在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)，則根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度范圍，創(chuàng)建監(jiān)測(cè)區(qū)域；其中，所述預(yù)設(shè)高度范圍的最大高度為上模具的最大高度，所述預(yù)設(shè)高度范圍的最小高度為：所述上模具的最大高度與所述上模具對(duì)應(yīng)的下模具的高度偏差的十分之一；

在所述圖像中提取所述監(jiān)測(cè)區(qū)域內(nèi)所述料帶的特征；

若提取到所述料帶的特征，則確定所述料帶上所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域存在拱起。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述判斷所述圖像中上模具高度是否在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)，包括：

在上模具的下降過(guò)程中，判斷所述圖像中上模具高度是否在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度范圍，創(chuàng)建監(jiān)測(cè)區(qū)域，包括：

根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度范圍的最大高度，確定所述監(jiān)測(cè)區(qū)域的上邊界；

根據(jù)所述料帶所在傳送臺(tái)的位置，以及預(yù)設(shè)高度偏差，確定所述監(jiān)測(cè)區(qū)域的下邊界。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域包括多個(gè)子區(qū)域，不同子區(qū)域內(nèi)上模具和/或下模具不同；

所述根據(jù)所述料帶所在傳送臺(tái)的位置，以及預(yù)設(shè)高度偏差，確定所述監(jiān)測(cè)區(qū)域的下邊界，包括：

根據(jù)所述料帶在傳送臺(tái)的位置，以及所述各子區(qū)域?qū)?yīng)的預(yù)設(shè)高度偏差，確定所述各子區(qū)域的下邊界，所述監(jiān)測(cè)區(qū)域的下邊界包括：多個(gè)所述子區(qū)域?qū)?yīng)的下邊界。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖像采集設(shè)備的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)不同的預(yù)設(shè)高度范圍。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

若所述料帶上所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域存在拱起，則生成停機(jī)信號(hào)，以控制所述上模具停止下降。

7.一種級(jí)進(jìn)模拱料監(jiān)測(cè)裝置，其特征在于，所述裝置包括：

獲取模塊，用于獲取圖像采集設(shè)備所采集的料帶上所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域的圖像；

判斷模塊，用于判斷所述圖像中上模具高度是否在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)；

創(chuàng)建模塊，用于若所述圖像中上模具高度在預(yù)設(shè)高度范圍內(nèi)，則根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度范圍，創(chuàng)建監(jiān)測(cè)區(qū)域；其中，所述預(yù)設(shè)高度范圍的最大高度為上模具的最大高度，所述預(yù)設(shè)高度范圍的最小高度為：所述上模具的最大高度與所述上模具對(duì)應(yīng)的下模具的高度偏差的十分之一；

提取模塊，用于在所述圖像中提取所述監(jiān)測(cè)區(qū)域內(nèi)所述料帶的特征；

確定模塊，用于若提取到所述料帶的特征，則確定所述料帶上所述圖像采集設(shè)備對(duì)應(yīng)區(qū)域存在拱起。

8.一種監(jiān)測(cè)設(shè)備，其特征在于，包括存儲(chǔ)器、處理器，所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)上述權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的方法的步驟。

9.一種存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器運(yùn)行時(shí)執(zhí)行如權(quán)利要求1至6任一所述的方法的步驟。