[發明專利]檢測裝置及檢測方法

在審

• 申請號: 202010012577.X
• 申請日: 2020-01-06
• 公開（公告）號: CN113075216A
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 陳魯;張鵬斌;劉健鵬;張嵩;范鐸;李海衛
• 申請（專利權）人: 深圳中科飛測科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/89;G01N21/892;G01N21/894;G01N21/01
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種檢測裝置，其特征在于，包括第一光學系統和第二光學系統，所述第一光學系統用于對待測物進行第一檢測，得到所述待測物表面的待檢出對象分布信息；所述第二光學系統用于根據所述待檢出對象分布信息對所述待測物進行第二檢測，得到待檢出對象細節信息，所述第二光學系統的檢測精度高于所述第一光學系統的檢測精度。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第二光學系統包括：第二鏡頭、第二光源和第二探測組件，所述第二光源用于向所述待測對象發射第二檢測光束，所述第二檢測光束在所述待測物表面形成檢測光斑；所述第二探測組件用于通過所述第二鏡頭收集經過所述待測物形成的第二信號光。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第二檢測光束經所述第二鏡頭后在所述待測物表面形成檢測光斑；所述第二鏡頭還用于收集所述第二信號光，并將所述第二信號光匯聚至所述第二探測組件。

4.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第二檢測光束經所述待測物反射形成所述第二信號光；所述第二光學系統還包括：第三光源，所述第三光源用于向所述待測物發射第三檢測光束，所述第三檢測光束經所述待測物散射形成第三信號光；所述第二探測組件用于收集所述第三信號光。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一光學系統包括第一探測組件和多個第一光源，所述多個第一光源包括明場光源和暗場光源，所述明場光源用于向所述待測物發射第一檢測光束，所述第一檢測光束經所述待測物反射形成第一信號光，所述第一探測組件用于收集所述第一信號光；所述暗場光源用于向所述待測物發射第四檢測光束，所述第四檢測光束經所述待測物散射形成第四信號光，所述第一探測組件用于收集所述第四信號光。

6.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第二光學系統還包括對焦模塊，所述對焦模塊包括：對焦光源和對焦探測器；所述對焦光源通過所述第二鏡頭向所述待測物發射對焦光束，所述對焦探測器通過所述第二鏡頭探測所述待測物返回的對焦光束。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述對焦模塊包括WDI聚焦模塊、共聚焦模塊、干涉儀模塊中的其中一個。

8.根據權利要求1、2或5所述的裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括：載物臺，用于承載所述待測物；

所述載物臺被配置為帶動所述待測物相對所述第一光學系統進行運動操作，所述第二光學系統被配置為相對于所述載物臺沿第二方向平移；或者，所述載物臺被配置為帶動所述待測物相對所述第二光學系統平移，所述第一光學系統被配置為相對于所述載物臺沿所述第二方向平移；其中，所述運動操作包括沿所述第一方向平移、繞所述第一方向旋轉中的一者或兩者組合。

9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述第一方向垂于所述第二方向。

10.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述第一探測組件具有位于所述待測物表面的第一視場區；所述第一視場區沿所述第一方向延伸。

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述第一探測組件包括多個第一探測器，所述多個第一探測器的視場區沿所述第一方向排列。

12.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括第一導軌和第二導軌，所述載物臺與所述第一導軌滑動連接，所述第二光學系統或第一光學系統與所述第二導軌滑動連接。

13.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述暗場光源的數量為多個，多個所述暗場光源中存在至少兩個暗場光源的亮度和/或波長不同。

14.根據權利要求13所述的裝置，其特征在于，所述明場光源與至少一個所述暗場光源的亮度和/或波長不同。