[發明專利]一種沉積設備及其沉積方法

在審

• 申請號: 202010011427.7
• 申請日: 2020-01-06
• 公開（公告）號: CN113073305A
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 肖守均;林子平;李劉中;安金鑫;張雪
• 申請（專利權）人: 重慶康佳光電技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35;C23C14/08
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 李發兵

1.一種沉積設備，其特征在于，包括：

產品出入口，所述產品出入口用于供產品的進出；

濺射沉積室，所述濺射沉積室用于對產品進行濺射沉積；

氣相沉積室，所述氣相沉積室用于對產品進行氣相沉積；

真空搬運腔，所述真空搬運腔分別于所述濺射沉積室、氣相沉積室和產品出入口相連通，所述真空搬運腔中具有真空環境并設有用于將產品在濺射沉積室、氣相沉積室和真空大氣轉換腔之間進行搬運的搬運工具。

2.根據權利要求1所述的沉積設備，其特征在于，所述產品出入口中設有真空大氣轉換腔，所述真空大氣轉換腔用于腔內的真空環境進行轉換。

3.根據權利要求1所述的沉積設備，其特征在于，所述濺射沉積室和所述氣相沉積室的數量均為一個以上。

4.根據權利要求3所述的沉積設備，其特征在于，所述濺射沉積室的數量小于所述氣相沉積室的數量。

5.根據權利要求4所述的沉積設備，其特征在于，所述真空大氣轉換腔、濺射沉積室和氣相沉積室均勻分布設置于所述真空搬運腔的外側。

6.根據權利要求1所述的沉積設備，其特征在于，所述搬運工具為機械手臂。

7.根據權利要求1所述的沉積設備，其特征在于，所述真空大氣轉換腔的外側設有外側搬運工具。

8.一種應用于如權利要求1所述沉積設備的沉積方法，其特征在于，包括：

將產品從產品出入口搬運至氣相沉積室中；

產品在氣相沉積室中進行氣相沉積，在產品表面生成非金屬絕緣層；

在產品表面生成非金屬絕緣層后，在預定的時間內和在真空的環境下將所述產品搬運至濺射沉積室中；

產品在濺射沉積室中進行濺射沉積，在產品的非金屬絕緣層表面生成有緣層；

在生成有緣層后，將產品送入產品出入口中，并將產品搬出。

9.根據權利要求8所述的沉積方法，其特征在于，所述產品在氣相沉積室中進行氣相沉積，在產品表面生成非金屬絕緣層包括：

對所述氣相沉積室中的SiH₄和N₂O混合氣體電離成等離子體狀態的活性基團；

產品的表面對等離子體狀態的活性基團進行吸附，在產品表面反應形成SiO₂的非金屬絕緣層。

10.根據權利要求8所述的沉積方法，其特征在于，所述產品在濺射沉積室中進行濺射沉積，在產品的非金屬絕緣層表面生成有緣層包括：

對濺射沉積室中的氬氣進行電離，得到氬離子；

使氬離子在電場作用下向銦鎵鋅氧化物靶材運動撞擊，撞擊出來的銦鎵鋅氧化物原子飛向產品上的非金屬絕緣層表面并聚集成核，生成有緣層。