[發(fā)明專利]一種熒光檢測儀器的校準方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010010067.9
• 申請日: 2020-01-06
• 公開（公告）號: CN111157499B
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設計）人: 丁衛(wèi)東;蘇四美
• 申請（專利權）人: 深圳市華科瑞科技有限公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所 11399
• 代理人: 張楠楠

1.一種熒光檢測儀器的校準方法，其特征在于，所述熒光檢測儀器的校準方法包括如下步驟：

步驟S1，通過放置于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的光強測量儀，對所述熒光檢測儀器對應的激發(fā)光源器進行關于發(fā)光強度的第一校準處理，其中，所述激發(fā)光源器的發(fā)光波長為λ1；

步驟S2，通過放置于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的標準光源，對所述熒光檢測儀器對應的信號檢測器進行關于檢測精度的第二校準處理，其中，所述標準光源的發(fā)光波長為λ2，且λ1不同于λ2；

在所述步驟S1中，通過放置于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的光強測量儀，對所述熒光檢測儀器對應的激發(fā)光源器進行關于發(fā)光強度第一校準處理具體包括，

步驟S101，獲取關于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的第一屬性信息，并根據(jù)所述第一屬性信息，對所述光強測量儀進行第一布設操作；

步驟S102，根據(jù)所述第一布設操作的結果，獲取關于所述激發(fā)光源器位置的第二屬性信息；

步驟S103，根據(jù)所述第二屬性信息，調整所述激發(fā)光源器的發(fā)光工作模式，以實現(xiàn)所述關于發(fā)光強度的第一校準處理；

在所述步驟S101中，獲取關于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的第一屬性信息，并根據(jù)所述第一屬性信息，對所述光強測量儀進行第一布設操作具體包括，

步驟S1011，獲取關于所述熒光檢測儀器原有試紙條位置的位置區(qū)域面積數(shù)據(jù)和/或位置朝向數(shù)據(jù)，以作為所述第一屬性信息；

步驟S1012，獲取關于所述光強測量儀的受光區(qū)域面積數(shù)據(jù)和受光靈敏度數(shù)據(jù)；

步驟S1013，根據(jù)所述第一屬性信息、所述受光區(qū)域面積數(shù)據(jù)和所述受光靈敏度數(shù)據(jù)，確定所述光強測量儀的最佳布設位置，

其中，所述最佳布設位置通過下面過程確定：

假設原有試紙條位置的位置區(qū)域面積為S，所述位置區(qū)域的朝向角度為j，所述光強測量儀的受光區(qū)域面積為St，其受光靈敏度為M，同時確定檢測時間為t，環(huán)境系數(shù)為H，所述環(huán)境系數(shù)由環(huán)境溫度、環(huán)境濕度和環(huán)境氣體成分來確定，所述環(huán)境系數(shù)H通過下面公式(1)計算得到

在上述公式(1)中，P為環(huán)境溫度、Q為環(huán)境濕度，z_i、F_i分別為氣體i的折射率和濃度，i為環(huán)境氣體成分的編號，i＝1、2、3、…、n；

通過下面公式(2)計算得到所述最佳布設位置

在上述公式(2)中，P(x，y)為最佳布設位置，K(x，y)為原有試紙條相對于光源的位置坐標；

步驟S1014，根據(jù)所述最佳布設位置，對所述光強測量儀進行所述第一布設操作。

2.如權利要求1所述的熒光檢測儀器的校準方法，其特征在于：

在所述步驟S102中，根據(jù)所述第一布設操作的結果，獲取關于所述激發(fā)光源器位置的第二屬性信息具體包括，

步驟S1021，獲取所述激發(fā)光源器的尺寸信息和光發(fā)射口位置信息，以作為所述第二屬性信息的一部分；

步驟S1022，根據(jù)所述第一布設操作的結果，確定所述光強測量儀與所述激發(fā)光源器之間的相對位姿信息，以作為所述第二屬性信息的一部分。

3.如權利要求1所述的熒光檢測儀器的校準方法，其特征在于：

在所述步驟S103中，根據(jù)所述第二屬性信息，調整所述激發(fā)光源器的發(fā)光工作模式，以實現(xiàn)所述關于發(fā)光強度的第一校準處理具體包括，

步驟S1031，從所述第二屬性信息中提取關于所述激發(fā)光源器的尺寸信息和光發(fā)射口位置信息，以及所述光強測量儀與所述激發(fā)光源器之間的相對位姿信息；

步驟S1032，根據(jù)所述尺寸信息、所述光發(fā)射口位置信息和所述相對位姿信息，構建關于所述激發(fā)光源器的光發(fā)射模型；

步驟S1033，對所述光發(fā)射模型進行優(yōu)化處理，以調整所述激發(fā)光源器的發(fā)光工作模式，從而實現(xiàn)所述關于發(fā)光強度的第一校準處理。