[發明專利]一種新型的SE Mark點圖形結構及其制備方法在審
| 申請號: | 202010009929.6 | 申請日: | 2020-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN111370391A | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發明(設計)人: | 王建 | 申請(專利權)人: | 橫店集團東磁股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/544 | 分類號: | H01L23/544;H01L31/18 |
| 代理公司: | 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109 | 代理人: | 尉偉敏 |
| 地址: | 322118 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 se mark 圖形 結構 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了一種新型的SE Mark點圖形結構及其制備方法,克服現有技術的圖形容易遇到同一區域二次加工造成Mark點損傷成本高穩定性低制作時間長的問題,包括硅片和若干Mark點,所述Mark點為十字形結構,Mark點被鐳射在硅片的四個角區用于PERC疊加選擇性發射極技術。本發明通過特殊的Mark點能夠在生產過程中提高生產效率提高產能,減少設備報警次數,將制作時間大大縮短,這種制備方法便于設備識別,工業化生產過程中穩定性好,設備完全兼容,激光鐳射出四個十字形Mark點,以得到更好的對位點形貌和方便識別,打標過程橫線和豎線之間不會重疊打標,印刷時設備相機更容易識別,減少報警次數,有效提高工業化生產效能。
技術領域
本發明涉及激光打標技術領域,尤其是涉及一種打標過程中防止重疊達標防止損傷Mark點、印刷時設備相機更佳容易識別減少報警次數、加工工藝簡單減少加工時間同時提高產能的新型的SE Mark點圖形結構及其制備方法。
背景技術
太陽能是人類取之不盡用之不竭的可再生能源.也是清潔能源,不產生任何的環境污染。在太陽能的有效利用當中;太陽能光電利用是近些年來發展最快,最具活力的研究領域, 是其中最受矚目的項目之一。為此,人們研制和開發了太陽能電池。制作太陽能電池主要是以半導體材料為基礎,其工作原理是利用光電材料吸收光能后發生光電子轉換反應,根據所用材料的不同。隨著晶硅電池科學與技術的發展,PERC電池已經逐漸成為市場主流,在未來幾年的發展中PERC電池及PERC疊加新技術電池會逐漸成熟,走向工業化生產,PERC疊加SE技術是一種有效的提升電池效率的技術路徑,也是一種容易實現,耗費成本較低的一種技術手段,其中疊加SE技術是通過激光摻雜技術實現的,其中激光摻雜圖形Mark點是該技術的一個關鍵點。
在用激光制作選擇性發射極結構中,需要打出電池在印刷時的對位Mark點,一般需要四個在固定位置的MARK點,分別位于硅片的四個角區域,這四個Mark點是相互獨立的,制作過程中需要激光器單獨打標,Mark點打標時間的長短影響整臺設備的產量,因此選擇合適的Mark圖形是提高產能,增加收入的很重要一部分。目前行業內制作SE電池片的mark點結構采用的激光都是方形光斑且光斑直徑為120um,同心圓圖形外圓直徑為500um,內部共有4-5個圓,激光打標的時候會在內部兩圓交界處重疊打標,這樣同一位置經過兩次激光打標之后會出現損傷的情況,在絲印相機下就容易被不識別造成設備報警,且會在一定程度對電池片的轉換效率造成影響。常規的對準Mark點制作圖形是一組同心圓,該圖形雖然可以實現圓形Mark點,但是缺陷是:容易重復打標損傷硅片,同時制作Mark點需耗費0.2s時間,影響產線產能。
發明內容
本發明是為了克服現有技術的圖形容易遇到同一區域二次加工造成Mark點損傷成本高穩定性低制作時間長的問題,提供一種新型的SE Mark點圖形結構及其制備方法,本發明的Mark點圖形可以避免常規Mark圖形遇到同一區域二次加工的問題,減少Mark點處的損傷,該圖形可以和現有激光摻雜設備完全兼容,極大的降低了成本,且工業化生產過程中穩定性好,制作時間≤0.1s,大大縮短了整個激光打標的時間,提升了產能。
為了實現上述目的,本發明采用以下技術方案:
一種新型的SE Mark點圖形結構,包括硅片和若干Mark點,所述Mark點為十字形結構,Mark點被鐳射在硅片的四個角區用于PERC疊加選擇性發射極技術。十字形的Mark點圖形避免常規的同心圓形Mark點圖形遇到同一區域進行二次加工的問題,減少了Mark點的損傷,十字Mark點圖形能夠和現有激光摻雜設備兼容,且縮短了激光打標的時間大大提高了產能,且十字Mark點圖形更佳容易被設備相機在印刷過程中識別,減少報警的次數加工工藝簡單。
作為優選,所述Mark點圖形結構包括兩條相互垂直的直線,其中一條直線帶有缺口,缺口穿過另一條直線。缺口可以防止兩條垂直的直線重疊導致的Mark點上的區域重復打標帶來的損傷。
一種新型的SE Mark點圖形結構的制備方法,包括以下步驟:
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